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- 2018-11-16 发布于广西
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1绪论
1.1研究背景和现状
1.1.1集成光学的发展和表面等离子体的提出
自从1969年美国贝尔实验室的S.E.Miller第一次提出“集成光学”的概念,集成光学在理论和应用方面得到不断发展。集成光学包含了光学、激光学、微电子学、光电子学、通讯技术、薄膜技术等,它主要研究二个方面的内容:一是研究如何把各种光电子器件集成在同一衬底上形成具有一定功能的微型光学系统,以及如何改善该系统性能;二是研究光在波导介质中的激发、耦合、传导和损耗等物理现象和性质,以及相应的光学器件。随着光电子技术的不断发展及微纳型光电子器件制造工艺水平的显著提高,集成光学的发展趋势将是微型化、高度可集成化、高速化。
目前的制造工艺水平已经可以将电子电路制成100纳米以下,然而,由于受到衍射极限的限制,光子回路尺寸还在微米量级,在此情况下不能满足光信号的传输、存储和相关处理,也不能现代电子电路满足对光电子器件微型化和高度集成化的要求。因此,光学领域中在纳米尺寸上对光传播行为的控制以及亚波长尺寸的光电子器件的制作得到了人们广泛的关注,成为集成光学领域的研究热点和探索方向。
在纳米尺寸上对光进行控制主要有二种方法:一是基于光子晶体的结构。光子晶体是被人为按一维、二维或三维周期性排列后所形成的电磁介质,其排列周期通常与工作波长在一个数量级内。光子晶体中的光子是可控的,并且它们的特性是高度可预
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