《第五章暗室处理技术08》-课件.ppt

暗室处理技术 暗室处理技术 射线检测一般需要三个工序过程 即：射线穿透工件后对胶片进行曝光过程； 胶片的暗室处理； 底片的评定过程。 暗室处理又是射线照相过程中的最后一个环节，胶片在暗室处理的好坏，直接影响到底片质量以及底片的保存期，甚至会使透照工作前功尽弃。 此外，正确的暗室处理是透照工艺合理与否的信息反馈，为透照工艺的进一步改进提供依据。 胶片暗室处理，按操作方式区分，有手工和自动之分。目前国内多数仍采用手工操作。 胶片的处理程序主要包括显影、停显、定影、水洗和干燥五个过程。 1. 暗室基本知识 1.1 暗室布局知识 暗室是射线照相进行暗室处理的特殊房屋，是工业射线照相工作中不可缺少的设施。 暗室设计应根据工作量的大小、显定影方式以及设施水平等具体条件统筹安排，但必须满足防辐射、不漏光、安全灯的安全可靠、室内机具布局合理、室内通风以及保持一定的温度、湿度等原则。对手工暗室操作的暗室设计，应充分考虑如下几点： (1)防辐射 暗室不得有任何射线的辐射线(包括散射线)，射线不仅使胶片感光，同时危及工作人员的健康。 在无法远离射线源的暗室(包括暗室门)，应采取适当的防护措施。 暗室基本知识 (2)遮光性良好 胶片在显影及装片时暗室是不允许任何室外光透入的，以免胶片感光，影响底片质量。暗室一般不开窗户，设有前室或迷路口的暗室门，可有效地防止暗室门漏光，而工作人员出入也很方便。此外，暗室的排风装置、空调机、供水管线穿墙等也是漏光点，应采取适当措施堵实，以防漏光。 (3)暗室应有适当空间，器具布局合理 暗室主要用来装片和处理已摄胶片，若有条件宜分室进行。共用一室的平面布置应分成干燥和潮湿部分，干燥区用来布置存放暗盒、增感屏以及胶片的橱柜及工作台，潮湿区布置成显影—停显—定影一水洗作业。 (4)要有通风设施 暗室不仅潮湿，而且常有醋酸气体，影响工作人员健康，容易引起电器设备漏电，同时对材料器具使用寿命也不利，故应有通风设施。一般可以装排风扇或自然排风管解决。 暗室基本知识 (5)保持一定的温湿度 温度15-20℃，湿度50％-60％(相对湿度)保证显、定影工作质量和胶片的有效期。 (6)注意用电安全 暗室潮湿，容易产生电器设施漏电，且一般暗室操作人员又少，能见度低，一般应在总线路上加装触电保护器，保障人身安全。 (7)室内应易于保持清洁。 暗室基本知识 手工冲洗的暗室简图如下: 暗室基本知识 1.2 暗室设备使用知识 暗室常用器材包括安全灯(三色灯)、温度计、天平、洗片槽、烘干箱等，有的还配有自动洗片机。洗片机等设备的使用有专门的操作规程。其他设备使用时应注意以下几点： (1)安全灯用于胶片冲洗过程中的照明。不同种类胶片具有不同的感光波长范围。工业射线胶片对可见光的蓝色部分最敏感，而对红色或橙色部分不敏感，因此，用于射线胶片处理的安全灯采用暗红色或暗橙色。 (2)为保证安全，对新购置的安全灯应进行测试，对长期使用的安全灯也应作定期测试。 测试方法为：在工作位置放置胶片，上盖黑纸，打开安全灯，每隔数分钟移动一下黑纸，使胶片不同部位在安全灯下经受不同时间的曝光，然后进行标准显影处理，将曝光部分与未曝光部分比较，以黑度不明显增大为安全，据此可确定安全灯的性能以及允许工作时间和工作距离。 暗室基本知识 (3)温度计用于配液和显影操作时测量药液温度，可使用量程大于50℃，刻度为1℃或0．5 ℃的酒精玻璃温度计，也可使用半导体温度计。 (4)天平用于配液时称量药品，可采用称量精度为0．1g的托盘天平。天平使用后应及时清洁，以防腐蚀造成称量失准。 (5)胶片手工处理可分为盘式和槽式两种方式，其中盘式处理易产生伪缺陷，所以目前多采用槽式处理。洗片槽用不锈钢或塑料制成，其深度应超过底片长度20％以上，使用时应将药液装满槽，并随时用盖将槽盖好，以减少药液氧化。槽应定期清洗，保持清洁。 (6)配液的容器、搅拌棒应使用玻璃、搪瓷或塑料制品，也可用不锈钢制品，切忌使用铜、铁、铝制品，因为铜、铁、铝等金属离子对显影剂的氧化有催化作用。 暗室基本知识 1．3 胶片处理程序和操作要点 胶片手工处理过程可分为显影、停显、定影、水洗、干燥五个步骤，各个步骤的标准操作条件： 暗室基本知识 1.显影温度对底片质量影响很大，必须严格控制。 2.胶片放人显影液之前，应在清水中预浸一下，使胶片表面润湿，避免进入显影液后胶片表面附有气泡造成显影不均匀。 3.显影时正确的搅动方法：在最初30秒内不间断地搅动，以后每隔30秒搅动一次。 4·停显阶段应不间断地充分搅动。 5.停显温度最好与显影温度相近，停显温度过