含CF2O桥键四氢吡喃液晶化合物的合成与性能
第 卷 第 期 液晶与显示
32 9
Vol.32 No.9
ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas
年 月 q y p y
2017 9 Se.2017
p
文章编号: ( )
1007G2780201709G0701G07
含CFO桥键四氢吡喃液晶化合物的
2
合成与性能
∗
, , , ,
谭小玉 田会强 王 杰 戴 雄 高立龙
( , ;
1.北京八亿时空液晶科技股份有限公司 北京102205
, )
2.液晶材料分析及应用技术北京市重点实验室 北京102205
: 、 ,, , 、 、
摘要 以对二溴苯 烷基 四氢吡喃 酮和 三氟 甲基苯酚为原料 经过丁基锂反应 脱羟基 和
5G G G2G 345G G2G Suzuki
[ [ (,, ) ] , [, ] ]
等共 步反应最终合成 二氟 三氟 甲基苯氧基 甲基 二氟 联苯 基 烷基四
Williamson 5 24′ 345G 2G G3′5′G G11′ G4G G5G
. 、 、 .
氢吡喃类液晶化合物 反应中考察了温度 溶剂 催化剂和原料比对反应收率的影响 其中脱羟基反应滴加温度-70
, : : ; ( )
℃~-80℃ 原料羟基化合物 三乙基硅烷 三氟化硼乙醚的摩尔比为 1∶1.5∶2.5Suzuki反应选用四 三苯基磷 钯反
应收率最高;,,三氟 甲基苯酚的 醚化最优条件为在 与水的混合溶剂中醚化 .纯化后目标
345G G2G Williamson DMSO 6h
1
, , . ,
产物气相色谱纯度 总收率约为 结构经
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