非晶态WO3薄膜的制备及光催化性能研究-材料学专业论文.docxVIP

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  • 2018-11-28 发布于上海
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非晶态WO3薄膜的制备及光催化性能研究-材料学专业论文.docx

非晶态WO3薄膜的制备及光催化性能研究-材料学专业论文

重庆大学硕士学位论文中文摘要 重庆大学硕士学位论文 中文摘要 I I 摘 要 随着工业的发展,大量的废水废物带来严重的环境污染问题,而传统的治理 方法已不能满足人们的需求,在治理过程中如何利用清洁能源、避免产生二次污 染成为人们关注的热点。光催化氧化技术能完全矿化目标污染物、无二次污染, 从而在废水治理领域有很好的应用前景。在众多光催化剂中,WO3 的禁带宽度约 为 2.5eV,能吸收波长小于 500nm 的可见光,光转换效率高。 本课题采用射频反应磁控溅射法在玻璃基片上沉积了非晶态 WO3 薄膜,并探 讨了其光催化活性。采用 X 射线衍射仪(XRD)、扫描隧道显微镜(STM)、X 射线光 电子能谱仪(XPS)等仪器对所制薄膜的结构、表面形貌及成分进行了分析。本实验 中,通过监测薄膜在紫外光照射下对亚甲基蓝和罗丹明 B 溶液的光降解过程,研 究了制备工艺参数和 Mo 掺杂对 WO3 薄膜的光催化活性的影响。通过重复光催化 降解实验测定 WO3 薄膜的使用寿命,采用超声去离子水洗的方法对失活薄膜进行 活性再生。 研究结果表明:所制备的 WO3 薄膜和 WO3:Mo 薄膜均为非晶态结构,表面为 疏松结构。在 W 靶溅射功率为 80W,氧气流量为 15SCCM,溅射时间为 60min 条 件下制备的 WO3 薄膜具有最佳的光催化活性。WO3 薄膜的厚度阈值为 632nm,当 薄膜厚度小于

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