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光纤光栅（Fiber Bragg grating） 光敏性与光纤光栅 分类 制作方法 应用 光纤光栅是利用石英光纤的紫外光敏特性将光波导结构直接做在光纤上形成的光纤波导器件。 发展： 1978年Hill发现光敏特性并成功制作FBG 1989年Meltz提出的横向写入制造方法 1993年Hill等人提出的相位掩膜制造法 光纤光栅器件逐步走向实用化 光敏特性 光纤的折射率在紫外光照射下，随光强发生变化的特性。 光纤的这种光致折射率变化具有稳定性，可保持永久性不变。 利用紫外光就可以将一些特定的光波导结构写入光纤中，形成光纤型光波导器件。 光纤光敏特性的动力学机理现在尚未完全研究清楚 较为普遍的观点：由于诱导光（紫外光）的作用，光纤中原子的某些键被破坏，产生的自由电子进入光纤材料的色心陷阱中，从而改变了光纤的吸收、散射等光学特性，出现折射率的变化；另外，在光照射过程中，光纤材料结构释放诱导应力以及构形的畸变等也导致了折射率的变化。 这种光折变效应主要发生在近紫外波段 最初光致折射率变化出现在掺锗光纤中，后来研究发现，具有光敏特性的光纤种类很多，有些是掺磷或硼，并不一定都掺杂，只是掺杂光纤的光敏特性更明显。有时根据需要为了加大折射率的变化程度，就会选用高掺杂的光纤。 折射率的永久性改变 与掺杂锗的浓度基本上成正比关系，与所用的紫外光源类型及照射到材料上的能量密度有关 对光纤