聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌.pdf

维普资讯 第34卷第3期 上海师范大学学报(自然科学版) Vo1．34，No．3 2005年 9月 JournalofShanghaiNormalUniversity(NaturalSciences) 2005 ，Sep ． 聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌 谢东珠 (上海师范大学 数理信息学院，上海 200234) 摘 要：报道 了TiNi薄膜的聚焦离子束刻蚀特征．7Lg4蚀后的表面形貌．测量结果表 明薄膜的 表面粗糙度随刻蚀深度呈非线性变化 ，当刻蚀深度等于0．1I．zm 时，表面粗糙度为最小(5．26 nm，刻蚀前为 14．88nm)；刻蚀深度小于0．1Ixm时，表面粗糙度随刻蚀深度的增大而减小；当刻 蚀深度大于0．1Ixm时表面粗糙度 随刻蚀深度增大而增大，其原 因是刻蚀深度大于0．1m后 表面出现了清晰的周期性条纹结构．此外，表面粗糙度随聚焦离子束流的增大而减