正文光学元件在高能激光辐照下损伤探测的光电检测系统的研究..docxVIP

第 1绪论 1.1 光学薄膜激光损伤检测研究的背景和意义 自从激光问世以来,光与物质相互作用这一重要科学领域得到了新的开拓。六十年代初,随着调Q激光器的出现,激光对物质的破坏作用就为人们所察觉。随着激光器研究的发展以及高功率激光器的出现,人们发现,光学器件本身所能承受的抗破坏能力已成为限制激光器有用输出功率提高的重要因素之一，因此,激光对材料的损伤就成了激光研究领域中的一项重要课题[1]。 光学薄膜几乎是所有光学系统中不可缺少的基本元件，并且也是激光系统中最薄弱的环节之一。长期以来，激光对光学薄膜的破坏一直是限制激光向高功率、高能量方向发展的“瓶颈”，也是影响高功率激光薄膜元件使用寿命的主因。另一方面，光学薄膜也是导弹、遥感卫星等航天飞行器中导引、定位、遥感甚至能源系统中的重要组成元件，应用强激光武器对光学薄膜元件的破坏可以造成航天飞行器的致眩、致盲、失控，甚至于系统的整体失效。光学薄膜中即使出现十分微小的瑕疵，也会导致输出光束质量的下降，严重时将引起整个系统的瘫痪，光学薄膜的抗损伤特性将直接影响到整个系统的设计方案以及今后系统运行的性能。所以，研究光学薄膜的抗激光破坏问题具有非常重要的意义[2]。 然而，激光对光学薄膜的损伤是一个复杂的过程，它由作用激光（重复频率、波长、脉宽、偏振态、模式、光斑、辐照方式等）和光学薄膜的性质（薄膜光学特性、膜料、制备工艺、薄膜结构、缺陷密度