第二篇 材料电子显微分析 第十四章 电子背散射衍射分析技术.ppt

第二篇 材料电子显微分析 第八章 电子光学基础 第九章 透射电子显微镜 第十章 电子衍射 第十一章 晶体薄膜衍衬成像分析 第十二章 高分辨透射电子显微术 第十三章 扫描电子显微镜 第十四章 电子背散射衍射分析技术 第十五章 电子探针显微分析 第十六章 其他显微结构分析方法 第十四章 电子背散射衍射分析技术 本章主要内容 第一节 概 述 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 第三节 电子背散射衍射技术硬件系统 第四节 电子背散射衍射技术原理及花样标定 第五节 电子背散射衍射技术成像及分析 第六节 电子背散射衍射技术数据处理 第一节 概 述 电子背散射衍射(EBSD)技术，开始于20世纪80年代，该技术是基于扫描电子显微镜为基础的新技术 利用此技术可以观察到样品的显微组织结构， 同时获得晶体学数据，并进行数据分析 这种技术兼备了 X 射线统计分析和透射电镜电子衍射微区分析的特点， 是X射线衍射和电子衍射晶体结构和晶体取向分析的补充 电子背散射衍射技术已成为研究材料形变、 回复和再结晶过程的有效分析手段，特别是在微区织构分析方面的应用 第一节 概 述 EBSD的发展大致经历以下几个阶段： 1928年，日本学者Kikuchi在透射电镜中，首次发现了带状电子衍射花样，并对此衍射现象进行解释， 故称这种线条花样为菊池花样 1972年，Venables和Harland在扫描电镜中，得到了背散射电子衍射花样 20世纪80年代后期， Dingley得到了晶体取向的分布图。并成功地将EBSD技术商品化 20世纪90年代初， 成功研究出自动计算取向、 有效图像处理以及自动逐点扫描技术，之后能谱分析和EBSD分析的有效结合使相鉴定更加有效和准确 2000年以后， EBSD标定速度的大幅提升，加快了EBSD的发展和推广 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 一、晶界类型 1) 小角度晶界 指相邻晶粒位向差小于10?的晶界，一般? 2? 其中包括倾斜晶界、扭转晶界和重合晶界等，分见图14-1、 图14-2和图14-3 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 一、晶界类型 1) 小角度晶界 指相邻晶粒位向差小于10?的晶界，一般? 2? 其中包括倾斜晶界、扭转晶界和重合晶界等，分见图14-1、 图14-2和图14-3 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 一、晶界类型 2) 大角度晶界 指相邻晶粒的取向差大于10?的晶界 常见模型有，皂泡模型、过冷液体模型、 小岛模型和重合 位置点阵模型，重合位置点阵模型见图14-4、 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 二、相界面 结构或成分不同的两间的界面称为相界面。 相界面可分 为三种类型 1) 共格相界 界面上的原子同时位于两相晶格点阵的结点上， 此时界面两侧的两相存在取向关系； 界面附近常伴有晶格 畸变。合金脱溶分解初期形成的新相， 或两相点阵常数相 近，或晶体结构相同时，往往具有共格界面 2) 非共格相界 完全没有共格关系的界面。当两相的晶体结构 存在较大差别，或第二相尺寸较大时，两相间为此类界面 3) 部分共格相界 借助位错维持其共格性的界面。此类界面在 马氏体转变及外延生长晶体中较常见 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 三、晶体取向坐标系建立 如图14-5，样品坐标系，由轧向RD、横向TD 、法向ND 三个互相垂直的方向构成； 晶体坐标系(以立方晶体为例)， 由3个互相垂直的晶轴[100]、[010]和[001]组成， 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 三、晶体取向坐标系建立 样品坐标系和晶体坐标系各轴间的关系可用夹角余弦表 示。由此可以构建一个方向余弦矩阵 g (14-1) 式中，?1, ? 2和? 3 分别是样品坐标系RD与晶体坐标系[100]， [010]和[001]间夹角；?1, ? 2和? 3是TD与[100]，[010]和[001] 间夹角； ?1, ?2和?3是ND与[100]，[010]和[001]间夹角 该矩阵为正交矩阵，其中有3个分量是独立的， 只需3个独立 分量即可确定晶体取向。但用此方法反映晶体取向比较复杂 第二节 电子背散射衍射技术相关晶体学基础 三、晶体取向坐标系建立 用样品坐标系和 晶体坐标系各轴