薄膜原理与技术大作业..docVIP

薄膜原理与技术课程作业1120111054 杨帅 授课教师：蒋玉蓉 薄膜原理与技术课程作业 一、简述宽带减反射膜在光学仪器中的作用，并设计如下膜系： 入射介质＝1；出射介质＝1.52；入射角＝；参考波长＝580nm；设计要求：400～440nm光谱段反射率小于2%；440～640nm光谱段反射率小于0.5％；640～700nm光谱段反射率小于2%。 减反膜的作用：减少介质间界面反射。界面反射会引起光学系统的光能量损失；加剧光学系统的杂散光干扰，加大系统噪声；在高功率激光系统中，界面反射可能引起反激光，损伤光学元件，所以为减少光能损耗，提高成像质量，照相机、电视机、显微镜等等中的光学镜头都镀有减反膜。为尽量减弱反激光，高功率激光系统中的透射光学元件表面也镀减反膜。 膜系结构： 优化结果： 二、设计带通滤光片： 入射介质＝1.52；出射介质＝1.52；入射角＝；中心波长＝550nm；；中心波长透过率，通带半宽度小于5nm。 膜系结构： 优化结果： 三、设计一个中性分光膜： 入射介质＝1.0；出射介质＝1.52；入射角＝；440～640nm光谱段。 膜系结构： 优化结果： 四、简述干涉截止滤光片通带波纹产生的原因及消除方法并设计如下要求分色镜： 入射介质＝1，出射介质＝1.52，入射角＝，截至波长，在 在。 产生波纹的原因： 1.等效光学导纳失配（波纹的幅度）（R1-R2≠0）。 2.等效位相厚度随波长变化。 波纹消除方法： 选取适当的膜系，使得在透射带内的等效折射率等于基质的折射率即使R1=R2。 1.改变基本周期的膜层厚度，使等效折射率更接近于预期值。同样要求基片折射率要低，反射损耗小。这种方法对于可见光可以，红外区损耗较大。 2.在多层膜的每一侧加镀匹配层（λ/4层），使它与基质以及入射介质匹配。插入层相当于多层膜界面的减反膜。 膜系结构： 优化结果： 五、简述光电极值法监控原理及其监控精度提高的措施。 监控原理：由多光束干涉原理可知，膜系反射率呈周期性变化，当膜层的光学厚度为监控波长的四分之一整数倍时反射率出现极值。利用膜层沉积过程中反射率（或透射率）随膜厚变化的这种规律，通过光电膜厚监控仪测沉淀过程中反射率（或透射率）出现的极值点，来监控四分之一波长的整数倍的膜系。 精度提高的措施：硬件设备的改进，如采用双光路光强信号测量透反射率值代替光路测量值来监控膜厚，可克服由于光波动及探测器波动、漂移带来的的影响：引入过正控制技术，即利用两极值点间的监控精度高于极值点的监控精度的特点，将停镀点移到极值点之后，根据镀膜检测过程中各层膜极值点的偏移量来修正理论计算的过正量，提高监控精度。 六、简述薄膜微观结构的特征及其表征方法，介绍一种薄膜微观结构观测原理。 特征： 呈现柱状加空穴结构；柱状几乎垂直与基板表面生长，而且上下端尺寸几乎相同；层与层之间有明显的界限，上层柱体与下层柱体并不完全连续。薄膜微观结构中还有很晶体缺陷。 X-射线光电子能谱 （XPS）原理： 其原理是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子。可以测量光电子的能量， 不同元素种类、不同元素价态、不同电子层(1s, 2s, 2p等)所产生的能量即XPS不同。以光电子的动能为横坐标，相对强度（脉冲/s）为纵坐标可做出光电子能谱图。从而获得试样有关信息。 被激发的电子能量可用下式表示： KE = hv - BE - Fspec Fspec= 谱学功函数或电子反冲能谱学功函数极小，可略去， 得到 KE = hv - BE 七、介绍光学薄膜在通讯行业或显示器产业中的一种应用。 光学薄膜技术一直是光学领域中不可忽略重要基础技术，而且品质要求也越来越高，加上近年来在资讯显示及光通讯科技快速发展之下，不论是在显示设备中分、合色元件，又或是在光通讯主、被动元件开发制程上，薄膜制造技术都是不可忽略重要技术。在显示器技术、光通讯技术、生医光电技术上，薄膜技术有其决定性的影响。 光学薄膜与镀膜技术的应用从精密光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜的应用都比较广泛。比方说，平时戴的眼镜、数位相机、各式家电用品，或者是钞票上的防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用的延伸。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是雷射技术发展速度，将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展重要性。 一般来说，要使用多层薄膜时，必须根据设计者需求，借用高低折射率薄膜堆叠技术，做为各类型光学薄膜设计之用，才能达到事先预期后评估的光学特性。比方说：减反射镜、高反射镜、分光镜、截止滤光镜、带通滤光镜、带止滤光镜等；而在电脑分析软、硬体发展健全的今