第三讲 封有机基板简介.pptVIP

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第三讲 封有机基板简介

思考题 1、试述作为陶瓷基板应该具备的条件。 2、试述陶瓷基板金属化方法 3、试述有机封装基板对材料主要性能的要求有哪些。 4、试述电解铜箔的生产制造过程及主要性能指标。 根据基板材料业制造加工的独特性,以及电子产品、 PCB的性能要求,目前基板材料所用的PI树脂的类型是加聚型聚酰亚胺(又称交联型聚酰亚胺)。 加聚型的PI,在粘接及固化过程中无挥发物产生,并且预聚物溶解性好、熔融流动性较佳,这些特性都有利于基板材料加工制造。在加聚型PI中,备受基板材料制造业青睐的还属聚氨基双马来酰亚胺(PABMI)树脂。实际上基板材料所用的PI,多指双马来酰亚胺类的PI树脂。主要有三大类:未改性PI树脂、环氧改性PI树脂、低εr的改性PI树脂 2、BT树脂的基板材料 以双马来酰亚胺(bismalimides)和三嗪(triazine)为主树脂成分,并加入环氧树脂、聚苯醚树脂(PPE)、烯丙基化合物等作为改性成分,形成的热固性树脂,称为BT树脂(bisrnadilnides,triazine,resin)。 1963年德国E.Grigat首次发现了采用由卤化氰与酚合成氰酸酯的简易工艺法。1972年,三菱化学开始研究BT树脂,并于1977年开始实现工业化。 20世纪80年代中期,此树脂在应用于覆铜板制造方面初见成效。到90年代末,该公司的BT树脂基板材料已发展到十几个品种。 由于这类基材具有高Tg、低εr的特性,近年来在日本、美国、欧洲等国家(地区)制造高性能、高频电路用PCB中,越来越得到更多的采用。 BT树脂基材也是有机封装基板最早选用的基材。它在20世纪90年代中期,优于环氧树脂等树脂基材,率先在封装基板上得到应用。这一点在欧美地区更为突出。 3、PPE树脂的基板材料 聚苯醚(poly phenylene ether)树脂简称为PPE树脂。 PPE树脂首先由美国通用电气公司(GE公司)于1965年实现工业化生产。 PE具有优异的力学性能和介电性能,但它的熔融粘度很高,熔点257℃与玻璃化温度(Tg:210℃)相差甚小,从熔融状态到形成结晶的时间很短,使它真正使用价值大大削弱。所以目前采用的PPE的品种,绝大多数是通过改性的树脂。 PPE具有优良的机械性能: 抗拉强度为70~77MPa, 抗拉模量高达2500 ~2700MPa 具有很好的低温性,脆化温度为-170℃。 PPE分子不含极性基团,故有优良的电绝缘性。 介电常数为2.45( 1 MHz), 介质损耗因数为0.0007( 1 MHz), 体积电阻为107Ω·cm,表面电阻为1015~1016 PPE具有高耐热性,热变形温度为190℃。 玻璃化温度为210℃。 可耐高浓度的无机酸、有机酸及其盐的水溶液,具有优良的耐水解性。 相对密度只有1. 06。 本 章 完 靠阴极一侧为毛箔的光面(shing面,简称S面),是PCB的电路面。它的质量与阴极辊表面抛光精度与质量,辊表面的维护、杂物的清除程度有密切关系。 另一侧为毛面(matt面,简称为M面)。是PCB基材结合的面,它的表面粗糙度和质量,与硫酸铜溶液过滤加工的质量、添加剂、电流密度、辊筒转速及其它工艺条件的控制有密切关系。 毛面处理: 第一步,是通过镀铜粗化处理在毛面上形成许多凸出的小突点,再在这些小突点上镀一层铜,把它们封闭起来,达到“固化”的作用,使之与毛面底基牢固结合。 第二步,是在粗化层上镀一薄层单一金属或二元、三元合金,如黄铜、锌、镍-锌、锌钴等,建立耐热钝化层。 第三步,是在钝化层上喷射、涂敷有机物等,而形成耦合层。 光面处理: 是为了提高光面的耐高温变色性、焊料浸润型、防锈蚀性和耐树脂粉模型等。一般在光面镀上锌、镍、磷之类元素中的一种或多种,并进行含铬化物(或其它有机防氧化物)的涂敷。 主要性能 ①厚度 在IPC、IEC、JIS三个标准中,均以标称厚度、单位面积质量来表示铜箔的厚度。 ②外观 铜箔表面要求无异物、无铜粉、无变色。不允许光面(S面)凹凸不平。目前用户一般都要求不允许出现针孔、渗透孔存在。在对铜箔储存、运输、高温压制加工层压板中,铜箔的光面,应保持不生锈、不变色的性能。 ③抗拉强度与延伸率 一般铜箔(STD)在高温下的延伸率与抗拉强度是较低的。同时,由于它与基板材料在一定温度下加工,若热态延展性不好,则会发生铜箔断裂问题。 ④剥离强度 铜箔与基材在高温高压条件下经压制加工后,它们之间的粘接强度,称为铜箔剥离强度(又称抗剥强度)。刚性覆铜箔板的剥离强度测定成垂直(90°)方向受力(挠性板有的成180°受力测定)。从铜箔角度来讲,决定此性能高低的因素,有铜箔的种类、粗化处理水平和质量、耐热层处理方式和水平等。 铜箔抗拉强度、延伸率在不同温度下的变化对比 ⑤耐折性 压

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