光学薄膜工艺基础积知识培训2009-7-11.pptxVIP

光学薄膜 工艺参数与影响因素;;;;;;1.工艺参数与薄膜性能的关系 2.影响光学性能的因素 3.影响薄膜机械性能的因素 4.影响薄膜环境稳定性的因素 5.总结;所以工艺因素对膜层内部结构产生了影响，使得对薄膜的各种性能产生影响 ,总结影响如图所示：;工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为： 一. 基片材料 1. 膨胀系数不同 热应力的主要 原因 ； 2. 化学亲和力不同 影响膜层附着力和牢固度； 3. 表面粗糙度和缺陷 散射的主要来源。 二. 基片清洁 残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1. 膜层对基片的附着力差； 2. 散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3. 透光性能变差。 ;三. 离子轰击的作用 提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。 四. 初始膜料 化学成分（纯度/杂质种类）、物理状态（粉/块）和预处理（真空烧结/锻压）影响膜层结构和性能;五. 蒸发方法 不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，表现为折射率、散射、附着力有差异。 六. 蒸发速率 速率是动能的又一表征，它对膜层的折射率、应力、附着力有明显影响。 七. 真空度 对膜层聚集密度，化学成分有影响，从而使膜层的折射率、硬度，牢固性发生变化。 八. 蒸气入射角 影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。 ;九. 基片温度;综合分析结果： ;工艺因素优选 工艺因素优选通常采用正交实验，它是研究和处理多因素实验的方法，它在理论和实践的基础上，利用正交表进行实验，这种方法的优点是能在很多实验条件中找出代表性强的少数条件，通过很少几次实验，找出较优的工艺因素，其步骤如下： 1.定指标、挑因素、选水平； 2.选用正交表、排表； 3.安排实验方案、实验； 4.分析实验数据、选取较优条件。