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原子力显微镜对薄膜样品的测量 演讲人：向超宇 学号：0530048 内容提要 背景 原理和实验 数据分析 结论 致谢 提问 背景 AFM是研究材料表面的重要手段 由于信息技术的发展，以Fe、Co、Ni为代表的磁光性质材料备受关注 验证膜参数拟合过程中对表面粗糙层计算 原理和实验 AFM 测量原理：微弱力的作用 主要是范德华力 接触方式：轻敲式 set piont 20mN 测量数据:表面形貌、表面硬度、表面厚度、断裂化学键或、附力 RF磁控溅射 溅射是一种物理沉积过程 磁控溅射示意图 数据和分析 标准样品 X：10.0μm，标准差的百分比0.1%； Y：10.1μm，标准差的百分比0%； Z：11.1nm，与标准差的百分比为88.7%。 范德华力叠加示意图 掺铁20% 粗糙层平均厚度为7.053nm。 拟合的粗糙层厚度为11.38nm。 两者百分差为38.0%。 Z方向的粗糙度R=1.082nm。 掺铁5% 粗糙层平均厚度为7.164nm。 拟合的粗糙层厚度为7.987nm。两者百分差为10.3%。 Z方向的粗糙度R=2.494nm 膜生长 掺铁5%的厚度为81.8nm， 掺铁20%的厚度为116.6nm 厚度问题 占空比，即介质在粗糙层中占的体积比 结论 AFM测量是表面力叠加的综合结果， 溅射的厚度（溅射时间