沉积时间对钼薄膜结构和热疲劳性能的影响.PDF

第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程 ２７ ３ Ｖｏｌ．２７ Ｎｏ．３ 　 　 　 　 　 年 月 ２０１４ ６ ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ｊｕｎｅ ２０１４ ： ／ ｄｏｉ１０．３９６９ ．ｉｓｓｎ２０１４．０３．００２ ｊ 沉积时间对钼薄膜结构和热疲劳性能的影响 １ １ ２ ３ ３ 朱晓岗 ，王 波 ，张丽霞 ，于敦波 ，杨远飞 　 （ 北京工业大学 薄膜材料与技术研究室，北京 ； 航天科工防御技术研究试验中心 三室，北京 １． １００１２４ ２． ； 北京有色金属研究总院 稀土材料国家工程研究中心，北京 ） １００８５４ ３． １０００８８ 摘 要：采用直流磁控溅射在不同沉积时间条件下制备钼薄膜，并用电子束热负荷装置对薄膜进行热疲劳 　 性能试验，利用 射线衍射仪（ ）对其结构和残余应力状态进行测试分析，用扫描电镜（ ）对钼薄膜热 Ｘ ＸＲＤ ＳＥＭ 疲劳前后形貌进行表征。结果表明：薄膜沿（ ）取向择优生长，呈柱状晶结构，薄膜内存在张应力，残余应 １１０ 力随沉积时间增加而逐渐减小。热循环试验后均未出现薄膜脱落现象，但均产生表面裂纹。随着沉积时间 由 增加至 ，疲劳裂纹由穿晶断裂的直线裂纹转变为沿晶开裂的曲折裂纹，同时成膜过程中的退火效应 ４ｈ ８ｈ 使薄膜的晶粒长大、晶粒结构更加趋于完整、残余应力减小，从而使薄膜疲劳裂纹减小。 关键词：钼薄膜；磁控溅射；热疲劳；电子束 中图分类号： 文献标志码： 文章编号： （ ） ＴＧ１７４．４４４ Ａ １００７９２８９２０１４０３００１００５ 　　　 　　　 犐狀犳犾狌犲狀犮犲狅犳犇犲狅狊犻狋犻狅狀犜犻犿犲狅狀犛狋狉狌犮狋狌狉犲犪狀犱犜犺犲狉犿犪犾犉犪狋犻狌犲犘狉狅犲狉狋狅犳 狆 犵 狆 狔 犕狅犾犫犱犲狀狌犿犉犻犾犿 狔 １ １ ２ ３ ３ ， ， ， ， ＺＨＵＸｉａｏ ａｎ ＷＡＮＧＢｏ ＺＨＡＮＧＬｉｘｉａ ＹＵＤｕｎｂｏ ＹＡＮＧＹｕａｎｆｅｉ ｇ ｇ （ ， ， ； １．ＴｈｉｎＦｉｌｍｓＭａｔｅｒｉａｌｓａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏ Ｌａｂｏｒａｔｏｒ Ｂｅｉｉｎ ＵｎｉｖｅｒｓｉｔｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏ Ｂｅｉｉｎ １００１２４ ２． ｇｙ ｙ ｊｇ