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刻蚀工艺培训教材(PPT 47页)
刻 蚀 培 训;生产线工艺流程;刻蚀的种类;*;*;*;*;*;*;*;什么是湿法刻蚀;HF/HNO3体系腐蚀机理;HF/HNO3体系腐蚀机理;HF/HNO3体系腐蚀机理;HF/HNO3体系腐蚀机理特点;HF/HNO3体系两区域腐蚀机理特点;HF/HNO3体系腐蚀液的选择;湿法刻蚀特点; 用无掩膜的背腐蚀来代替等离子刻蚀分离p—n结,背腐蚀使用HF-HNO3。溶液以及一些添加剂,避免了使用有毒性的CF4 气体,背腐蚀太阳电池的背面更平整,其背面反射率优于刻边,背腐蚀太阳电池能更有效地利用长波增加ISC。铝背场比刻边的更均匀,可以提高IQE,从而提高了太阳电池的VOC。;Rena结构
Rena生产原理
Inoxside界面操作
与等离子刻蚀比较
;Rena水平刻蚀清洗机1;Rena各部件功能介绍-1;Rena水平刻蚀清洗机2;Rena各部件功能介绍-2;Rena水平刻蚀清洗机各槽分布图;Rena各槽功能介绍;Rena各槽功能介绍;一、刻蚀槽;刻蚀槽溶液流向图;刻蚀槽液面;刻蚀槽硅片流入吸附刻蚀液原理;刻蚀槽硅片流入吸附刻蚀液原理;刻蚀槽前后硅片状态比较;Rinse 1;Alkaline rinse;碱槽溶液流向图(槽截面);Rinse 2;HF bath;氢氟酸槽溶液流向图(槽截面);Rinse 3;Dryer 2;湿法刻蚀相对等离子刻蚀的优点;1、硅片水平运行,机碎高:(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);
2、传动滚轴易变形:(PVDF,PP材质且水平放置易变形);
3、成本高:(化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加)。
;*;*;*; 谢 谢
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