下摆机精磨抛光工艺.doc

可编辑版 Word完美格式 文件名称 下摆机研磨工艺 制定时间 版次 第一版 作成 审核 批准 具 体 内 容 一、目的： 光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。 1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。 2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R值，并满足零件光圈数N及光圈局部 误差△N的要求。 二、抛光机理： 认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高(如氧化铈Ce02抛光粉比红粉Fe203硬度高，前者比后者抛光速率高2～3倍)。 另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1～1.2 um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 三、抛光基本常识： 1、光圈的概述： 被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时，它们之间形成对称的契形空气间隙，从而产生等厚干涉条纹，在白光照射下，可见到彩色光环，这种彩色环称为光圈，物理学中称牛顿环。 光圈数：红色光圈有几圈，光圈数就几圈. 光圈数：红色光圈有几圈，光圈数就几圈. 象散光圈允差 → 象散光圈允差 →椭圆、马鞍形、棱形 （△N1表示） 光圈 （面检） 局部误差误差 局部误差误差 光圈局部不规则程度 光圈局部不规则程度 →中高、中低、翘边等 （△N2表示） 光圈的识别： 高光圈与低光圈： 高光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向外扩散的，即高光圈； 低光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向内收缩的，即低光圈； 高光圈 高光圈 低光圈 低光圈 光圈数与局部误差的计算方法： 光圈数的计算方法：N=N检-N补 光圈数N，实际光圈数为N检，基准补负为Ｎ补。 例：基准补负2圈，实际测光圈数为－４圈，则：Ｎ＝Ｎ检－Ｎ补=4-（-2）=-2圈 局部误差计算方法： aA、象散光圈：△N1=b/a-1 B、光圈局部不规划：△N2=a/b=0.2/1=0.2 规则：0.5圈OK a b b 四、抛光前所需的准备工作： 1、配抛光液： 用对应的抛光粉配一定浓度的抛光液，一般抛光液的浓度设定为1.015—1.025（g /cm3 ），具体根据实际的玻璃情况设定，一般选择原则是软玻璃浓度小些，硬玻璃浓度适当取大一些。大约比例为： 磨耗度： 70—120(硬) 120—170（中等） 180（软）以上 比重 ：1.030—1.035 1.020—1.030 1.015—1.025 以上仅供参考。 总之，对于不同玻璃的镜片，应根据其化学稳定性（耐水性、耐酸性）和磨耗度，选择不同种类、不同粒度的抛光粉，并设定其浓度及PH值。 2、聚氨酯片的选用： 化学名称为聚氨基甲酸酯，简称聚氨酯。我们所用的聚氨酯片，是一种具有良好微孔结构，其强度、耐磨性、耐酸性、耐热性均较好，其硬度和塑性适中，是一种抛光效率高，使用寿命长的研磨抛光材料。其抛光镜片表面粗糙度为0.01—0.04μm.。 根据玻璃的磨耗度，从硬到软可参考按以下顺序选用聚氨酯片： LP—87 淡黄色或肤色 LP—57 白色 LP—26 粉红色（一般一种多用，单片，多片均可） LP—66 红褐色或暗红色（多片或大镜盘多用） GR—35 灰色（软硝材多用） 其中LP—87和LP—57一般在单片高速加工经常采用。（主轴转数在2500rpm以上）。LP—26Z中高速一般硝材适宜，LP—66、GR—35软材低速（1500rpm以下）或多片大镜盘用。聚氨酯片按其厚薄尺寸又分为：0.5mm,0.8mm,1mm,1.25mm和1.5mm多种。一般单片加工采用薄的聚氨酯片（0.5mm或0. 8mm）,而大镜片或多片加工镜盘口径较大时宜采用厚的聚氨酯片。 3、准备抛光所需的所有模具： 聚抛模3~5个，对改模正负各一个，大小面样板各一个，夹具大小面各2~4个，台灯，纱布若干块，黑皮（0.5或者0.8），剪刀（以上2样可以在用到时临时解决） 下摆机加工：弯勾，扳手，对应压力头，轴。 上摆机加工：顶针 4、模具制作： 由于新贴好的聚抛模表面未磨过，多个原因造成聚氨酯片表面达不到要求的面型： 4.1车床车出来的聚抛基模表面不是一个理想的球面，会有凹凸不平，甚至有严重的毛刺。 4.2贴上去的聚氨酯片自身凹凸不平，也不是理想