直流电沉积法制备镍纳米线阵列及其磁性能研究低维材料及其.PDF

( ) 王孝广 等 :直流电沉积法制备镍纳米线 阵列 及其磁性能研究 209 ( ) 直流电沉积法制备镍纳米线 阵列 及其磁性能研究 王孝广1 ,2 ,潘 　勇1 ,2 ,3 ,周兆锋1 ,2 ,王宝华1 ,2 ,彭冰川1 ,2 ,周益春1 ,2 ,3 ( 1. 湘潭大学 低维材料及其应用技术教育部重点实验室 ,湖南 湘潭 4 11105 ; 2 . 湘潭大学 材料与光电物理学院 ,湖南 湘潭 4 11105 ;3 . 湖南利德材料科技股份有限公司 ,湖南 株洲 4 12000) 摘 　要 : 　采用直流电化学沉积方法 ,在经过阶梯降压 认为由于铝在阳极氧化后 ,在纳米级孔洞的底部生成 处理的多孔阳极氧化铝模板纳米级孔洞中 ,制备出直 一层致密的阻挡层 , 电子很难穿过 ,从而直流电沉积很 μ ( ) [7 ] 径约 30nm ,长度超过 10 m 的金属镍纳米线 阵列 。 难把金属填充到未经通孔模板的孔洞中 。图 1 是模 通过场发射扫描电子显微镜 ,透射电子显微镜 ,X 射线 板法电沉积金属纳米线的两类传统方法 , 图 1 (a) 所示 衍射仪 ,振动样品磁强计对所制备的样品进行形貌 、结 为依次去除模板底部的金属铝层 、致密阻挡层 ,得到两 构及相关性能的表征和测试 。结果表明所制备的镍纳 端通孔的模板 ,然后在底部溅射一层金膜作为电极 , 电 米线排列规整 ,形态均匀 ,呈 fcc 结构 ,且沿[ 111 ] 方向 沉积时模板作阴极 ,金属离子在纳米孔洞底部金膜上 ( ) [ 8 ,9 ] 择优生长 ,易磁化方向沿纳米线长轴方向。 析出后 ,沿着孔壁生长成为纳米线 阵列 ,这种方 关键词 : 　直流电沉积 ; 阶梯降压 ; 镍纳米线 ; 磁性能 法存在明显的缺点 , 由于模板通孔处理后多孔层失去 中图分类号 : 　TB34 文献标识码 :A 了底部铝的支撑 ,多孔膜薄而且脆 ,极易被破坏 ; ( b) 图 ( ) 文章编号 :100 1973 1 2008 所示为阳极氧化完毕后 ,不去除底部金属铝层 ,直接进 行交流电沉积[ 10 ] 或者采用阶梯降压处理减薄了阻挡 1 　引　言 [ 11 ] 层 ,然后采用交流 电沉积把金属沉积在纳米孔洞 金属纳米线由于其在两维方向上处于纳米尺度 ,