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纳米晶钛薄膜的制备及结构分析
第36卷第4/ 5期 原 子 能 科 学 技 术 Vol. 36 ,No. 4/ 5
2002年7月 Atomic Energy Science and Technology J uly 2002
纳米晶钛薄膜的制备及结构分析
赵 越 ,刘 实 ,汪 伟 ,郝万立 ,王隆保 ,李依依
( 中国科学院 金属研究所,辽宁 沈阳 110016)
摘要 :采用磁控溅射和离子镀膜工艺在 Mo 基片上制备了具有不同晶粒尺寸的纯 Ti 薄膜 ,并利用 X 光
( ) ( ) ( )
衍射 XRD 、透射电镜 TEM 和扫描电镜 SEM 分析和观察了两类 Ti 膜的结构和形貌。实验结果显
示 :与溅射镀膜相比 ,离子镀膜的晶粒择优取向程度略低 , Ti 膜与基片结合较好 ;较高的基片温度有利于
提高膜的致密程度 ,并降低膜的晶粒择优取向程序。
关键词 :纳米晶薄膜 ;直流磁控溅射 ;空心阴极离子镀
中图分类号:O4845 文献标识码 :A 文章编号 :(2002) 04/
Preparation and Structure Analysis of Nanocrystalline Ti Film
ZHAO Yue , L IU Shi , WAN G Wei , HAO Wanli , WAN G Longbao , L I Yiyi
( )
Institute of Metal Research , Chinese Academy of Sciences , S henyan g 110016, China
Abstract : Ti films with different grain size are prepared by both magnet sputtering and ion
plating. Microstructure and morpholo gy of Ti film are analysed by Xray diffraction , TEM
and SEM , respectively. In contrast with sputtered films , the optimization of grain orienta
tion of ion plated Ti film is weaker and the cohesion between Ti film and Mo substrate is
stronger. The films are denser and the optimization of grain orientation is weaker when sub
straites are heated to elevated temperature.
Key words : nanocrystalline film ; DC magnetic sputtering ; hollow cathode ion plate
薄膜材料具有与块体材料不同的特性 ,膜 外 ,基片预热温度也在很大程度上左右着膜的
的结构很大程度受到制膜工艺及基片晶体结 生长方式和致密度以及膜与基体的结合力。
构、表面状态和温度等的影响。有人用透射电 金属薄膜的
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