衡岳真空常规共焦磁控溅射系统.PDFVIP

衡岳真空常规共焦磁控溅射系统 衡岳真空SP530/SP600/SP730 磁控溅射系统，采用共焦式溅射结构，结构紧凑，功能全 面，操作界面友好，稳定可靠，适合于研发及小批量生产需要。设备可以实现直流/射频溅 射、共溅射、反应溅射、磁性材料（铁、钴、镍等）溅射、工件预清洗、工艺过程加热、全 自动送样/取样。设备采用全自动控制。 设备主要特性：  SP530 真空室内径530mm，可以安装四 个3 英寸靶枪或者五个2 英寸靶枪，工 件盘直径 6 英寸；SP600 真空室内径 600mm，可以安装四个4 英寸靶枪或者 五个3 英寸靶枪，工件盘直径 9 英寸； SP730 真空室直径730mm，可以安装四 个6 英寸靶枪，工件盘直径13 英寸；  设备使用角度可调节靶枪。通过调节靶 枪高度和角度，可以优化溅射均匀性以及台阶覆盖率；  靶枪磁场优化，4 英寸靶材利用率提升到40% ；  优化靶枪结构，解决了靶枪靶材安装背板变形问 题，避免了因此带来的导电不良、散热差、挤碎 靶材的问题；  新的靶枪双层防污染设计，有效解决共焦溅射交 叉污染问题；  螺纹式阳极罩安装方式，