处理对富硅氧化硅薄膜中硅纳米形成的影-物理学报.PDF

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2019-03-02 发布于天津
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处理对富硅氧化硅薄膜中硅纳米形成的影-物理学报.PDF

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处理对富硅氧化硅薄膜中硅纳米形成的影-物理学报

Acta Phys. Sin. Vol. 61, No. 15 (2012) 157804 * 1) 1)† 1) 1) 1) 1)2) 1) ( , , 310018 ) 2) ( , 100876 ) ( 2011 11 26 ; 2011 12 27 ) , . , ∼ 42.63 at.% , 12 2 12 2 10 /cm . , , 2.2 × 10 /cm , ; , , ; , , . , , , . : , , PACS: 78.67.Bf, 68.55.−a, 81.15.Cd [2,4,6] . 1 . , , O/Si 1.4—1.6 (nanocrys- , 3 nm talline Si) , , , [7]. , [1,2] . . , , , (1.4—1.7 eV), , [5,7] . , , (rapid thermal annealing, , RTA)[8,9] [10,11] [3,4] . . , , , . [12], . , , , [4,5] 12 2 . (10 /cm ) . , , * (:, (: Y4100310, R4090058) (: 2009R406063) . E-mail: cancui@ c 2012 Chinese Physical Society