双模测量法消除编码孔成像的近场伪影-材料工程.PDF

第36 卷 第8 期 核 技 术 Vol. 36, No.8 2013 年8 月 NUCLEAR TECHNIQUES August 2013 双模测量法消除编码孔成像的近场伪影 肖 洒 兰明聪 党晓军 张连平 韦孟伏 （中国工程物理研究院 绵阳 621900 ） 摘要 在编码孔成像技术中，由于存在近场伪影的干扰，降低了重建图像质量。为了消除这一影响，本文通 过分析近场伪影的产生和消除原理，采用Geant4 程序模拟了近场条件下300 keV 单能源，通过MURA(19×19) 嵌套编码孔成像，分别获得了单模和双模测量条件下重建得到的源分布图像。结果显示，单模测量得到的图 像带有显著的近场伪影，而双模测量得到的图像中近场伪影得以消除。实际相机测量实验也获得了类似的结 果。因此，与传统的单模测量法相比，双模测量法可以有效抑制和消除编码孔成像中的近场伪影，从而增强 图像信噪比。 关键词 双模测量法，编码孔成像，近场伪影，Geant4 中图分类号 TL99 DOI: 10.11889/j.0253-3219.2013.hjs.36.080205 编码孔成像技术不仅被用于天文学中高能X 射 以实际相机实验结果，以验证上述原理的正确性和 线和射线的远场成像[1,2]，也被用于核聚变诊断[3,4] 实用性。 [5−7] 和核医学 等领域。编码孔成像的数学模型证明， 只有在远场条件下，具有完美相关特性的编码孔才 1 近场伪影的产生和消除原理 能给出理想的点扩散函数。在近场条件下，即来自 根据几何光学，在忽略编码孔厚度引起的准直 同一点源的射线不能看作平行线时，图像会与理想 效应、编码板材料的射线透过率以及背景噪声的情 情况发生偏差。发生偏差的主要原因有两个：一是  况下，编码孔成像过程中探测器位置r 处接收到的 由于源物体具有一定的厚度，而每次成像只能聚焦 [12] i 光子计数可表示为 ： 在物体的某一个平面上，其它失焦平面就在图像上      a b 3 2 造成了伪影；二是由于不同入射角导致的投影强度   P r ( ) O r (A) r  r cosr d  (1) i  0 i 0  0 变化。由于很多情况下源物体厚度远小于相机视场  z z  r0 深度，可以将其近似看作平面二维物体，前一个因 其中： 素可以忽略，因此我们主要关注平