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- 2019-03-03 发布于天津
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石膏牙、离体牙Ⅱ 类洞形预备 [目的和要求] 掌握G.V.BlackⅡ类洞形的特点及制备原则; 掌握龈壁、轴壁、髓壁及邻面的形成。 [实验内容] 在石膏制上颌第一磨牙、离体磨牙制备标准Ⅱ类洞形。 [方法和步骤] 复习上颌第一磨牙的外形特征。 Ⅱ类洞的制备 Ⅱ类洞的定义 Ⅱ类洞的预备要点:根据病变范围预备成单面洞/双面洞。如累及接触区,则制备成双面洞(邻合面洞)。 Ⅱ类洞的制备 邻合面洞:先预备邻面洞部分,再根据邻面洞大小制备合面洞。 邻面洞部分: 外形:梯形 结构:颊舌侧壁、轴壁、龈壁 抗力形:洞深、颊舌侧壁、龈壁、固位沟、轴髓线角 固位形:梯形固位、固位沟 Ⅱ类洞的制备 邻面洞部分要求: 外形:颊、舌壁略向合方聚合,形成龈方大于合方的梯形。 结构: 颊、舌壁:应越过接触区,达自洁区,扩展程度与邻面突度有关。 龈壁位置:位于接触点根方的健康牙体组织,与邻牙至少有0.5mm宽的间隙,以便于清洁。 轴壁:略向髓壁倾斜,轴髓线角圆钝。使轴髓线角处的充填体厚度增加,以抗衡此处所受的剪切力 邻面洞部分要求: 抗力形: 邻面洞深应为1~1.5mm; 颊、舌和龈壁的釉质壁部分应顺釉柱方向,略向外敞开,以防止形成无基釉;(注意与短斜面的区别) 轴髓线角圆钝,轴壁略向髓壁倾斜,这样使轴髓线角处的充填体厚度增加,以抗衡此处所受的剪切力。 邻面固位沟的预备使邻面有独立的固位形,这样
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