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58 / 2011 4
Effects of Grain Size on Resistance and T ransmitt ance
T ransit ion of Vanadium Oxide T hin Film
1 1 2 1 3 2
, , , , ,
( 1 , 3000 2; 2
, 100083; 3
, 100083)
1 1 2 1
LIANG Jiran , HU M ing , KAN Qiang , CHEN Tao ,
3 2
LIANG Xiuqin , CHEN H ongda
( 1 School of Electronic and Information Engineering, Tianjin U niversity,
Tianjin 3000 2, China; 2 State Key Lab on Integrated Optoelectronics,
Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing
100083, China; 3 Engineering Research Center for Semiconductor
Integrated Technology, Institute of Semiconductors, Chinese
Academy of Sciences, Beijing 100083, China)
: ,
, : 300 360
, 40% , , 50nm
100nm; 360 , , ; ,
; 30 , 8 ,
: ; ;
: O648; O484; TB43 : A : 2011)
Abstract: Vanadium oxide thin films w ere deposited by reactive direct current facing targets magne
tron sputtering, and then annealed in oxygen ambience under different temperature to fabricate phase
transition vanadium dioxide thin films w ith different grain size. The transformation of resistance and
transmittance of v
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