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光电子技术—清华大学讲述说明.ppt
光电子学的未来;光电子学的未来;信息高速公路的关键技术 (II);光电子学的未来;光电子学的未来;光电子学的未来;光电子学的未来;单光子作为信息载体 — 单量子态不可克隆定理
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? 石英光导纤维（损耗 1dB/km〕;光子晶体;三维; 光子晶体特性; 光子晶体特性; 光子晶体特性; 光子晶体特性; 光子晶体特性;;;二维光子晶体
(光子晶体光纤－PCF );百花争艳 PCF ;PCF 类型;0.8 mm; PCF 制备工艺;;? = 550W－1km－1（1550nm）( 比SMF大500倍，比普通PCF大15倍）;Hole diameter: 2.3???m; PCF 制备工艺;单模有机聚合物光子晶体光纤;;应用: 大模场面积－高功率激光/放大器
小模场面积－非线性光学器件; 3. 灵活的色散特性;4.场致折变;5. 单纤多芯传输 / 耦合;6. 空气芯光纤 ; PCF 应用研究进展;XPM+narrowband filtering (data rate of 10 Gbit/s) ;LPG:;电调 PCF 衰减器;Dynamic range: 30dB, Insertion loss:0.8dB, PDL:0.5dB, ?:1sec;电调 PCF 滤波器; PCF 应用研究进展;SMF;二维光子晶体
( 平光子晶体板－PCF );微电子工艺;Fig. 1: Photonic crystal waveguide in SOI. Pitch is 460nm, hole-size is 290nm.;PBG限制波导;PCS 特性;PC微腔复用/解复用器;PC滤波器; 共面PC谐振腔;微腔耦合波导激光器;光子晶体微腔激光器;光子晶体微腔激光器;光子晶体微腔激光器;光子晶体; 制备工艺 ; 制备工艺 ; 制备工艺 ; 制备工艺 ; 制备工艺 ;(c )(d) Patterned photonic crystals with high aspect ratios; 应用研究 ;光电子学的未来;光电子学的未来
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