氢化物气体的纯化方法α.PDF

18 低温与特气　　2000　　 1 氢化物气体的纯化方法 摘要: 将粗制氢化物气体与镍硫化物接触, 脱除粗制氢化物气体中含有的氧。 关键词: 氢化物气体; 纯化 中图分类号: TQ 122. 3　文献标识码: A 　文章编号: 1007- 7804 (2000) 0 1- 00 18- 03 　　该方法的特点是将粗制氢化物气体与镍硫化物 　　即本氢化物气体的纯化方法: 将粗制氢化物气 接触, 脱除粗制氢化物气体中含有的氧。 体与镍硫化物接触, 除掉粗制氢化物气体中含有的 ( 砷烷、磷烷、硒化氢、硅烷及乙硼烷等氢化物 氧。本方法适用于脱除用单独氢化物气体, 氢 氢 ( ) ) ( ) 气体作为制造砷化镓 GaA s 等化合物半导体等原 气底气 及氮、氩等惰性气体 惰性气体底气 稀 ( ) 料及离子注入用气等, 是非常重要的气体。其使用 释的氢化物混合气 以下总称为粗制氢化物气体 含 量正逐年增加, 随着半导体的高集成化, 杂质含量 有的氧。 也要求极低。 氢化物气体有砷烷、磷烷、硒化氢、硅烷及乙 硼烷等, 主要是半导体制造过程等使用的氢化物气 体。所谓的镍硫化物, 有 3 2、 等, 众所周知, 1　以前的技术 N i S N iS 在硫化镍及镍中硫是以其它各种形态结合的。 制造半导体时使用的氢化物气体, 一般情况下, 用各种方法均可制取镍硫化物, 其中简单的方 除了纯氢化物气体外, 采用市售的氢气或惰性气稀 法如镍与硫化氢接触, 可制取硫化物。此时, 金属 释的氢化物混合气。 镍或镍氧化物等还原, 取得以镍化物为主要成分的 在这些氢化物气体中, 含有氧及水分等杂质, 其 物质, 而且, 除镍金属成分外, 还可含有少量铜、铬、 中, 水分可通过合成沸石等脱湿剂除掉。 铁、钴等。 市售的纯氢化物气体中的氧含量一般为 10 × 这些镍可单独使用, 也可以催化剂等担体形式 10- 6 以下, 最近市售的钢瓶装氢化物气等, 其氧含量 使用。为提高镍表面与气体接触效率, 一般最好使 ( ) - 6 用催化剂担体的形态。 比较低, 为 0. 1～ 0. 5 ×10 。 众所周知, 目前还未发现高效率脱除氢化物中 以镍为载体的方