应用电泳沉积法于放电表面镜面抛光研究-机械工程系-东南科技大学.PDF

應用電泳沉積法於放電表面鏡面拋光研究 1 2 3 4 5 崔海平許笙載 吳坤齡 顏炳華 張振暉 國立中央大學機械工程學系 1 2 4 博士班研究生碩 士班研究生 教授 東南科技大學機械工程系 3 副教授 金屬工業研究發展中心 5工程師 摘要 1996 年K. Takahata 等學者利用Al O 磨粒吸附在 2 3 本研究係利用電泳沉積法(Electrophoretic Deposition 100μm直徑的電極上，工件以往復移動430μm距離的 Method, EPD Method) 來實現放電加工後工件表面鏡 方式來拋光Micro-EDM製程後之微結構表面[6] 。 面拋光，藉由電泳沉積特性，拋光磨輪會不斷地再 1998 年Y. Tani 等學者係利用電泳沉積SiO磨粒，進行 2 生，工件表面因此可快速得到相當良好的鏡面 效 矽晶圓拋光及玻璃加工實驗 [7] 。1998 年Z. Haga 等學 者係使用NaOH溶液來讓SiO 果，並可應用於改善傳統拋光製程之耗費人力、拋光 顆粒做泳動，使 SiO 沉積 2 2 效率低落及表面品質不佳等問題。本研究之EPD拋光 於鋁與石墨結合的杯狀電極上，對氧化鋯做拋光實驗 實驗單因子參數包括有拋光時間、磨輪施加於工件表 [8] 。2004 年Y. Yamamoto 等學者利用電泳沉積現象所 面之軸向荷重、磨輪轉速、拋光進給速率及工作電壓 製作出來的SiO磨輪以定壓研磨的方式來對矽晶圓做 2 等，並運用電泳沉積現象和機械拋光之特性，針對不 研磨，且達到約 Ra 3.4 nm的鏡面 [9] 。2006 年T. Oshita 鏽鋼材質之放電面進行表面拋光加工實驗，對其作表 等學者，將氧化鈰顆粒分散在褐藻酸鈉水溶液中，藉 面粗糙度量測與表面形貌觀察，並對實驗結果進行分 由電泳沉積現象製造出圓片狀且質地均ㄧ之氧化鈰拋 析與探討。 光磨輪，且運用該磨輪拋光石英晶圓表面，可得到鏡 由實驗結果得知，使用 SiC 粒徑顆粒大小為 面之效果。但運用此磨輪於拋光製程中，該磨輪易溶 0.9~1.5μm ，進行EPD 拋光加工實驗後，可將工件原 於水，導致研磨輪壽命短及拋光效率低落之現象 始表面粗糙度值為 Ra 1.67 μm(Rmax 10.11 μm) ，下降 [10] 。但以上各項研究，僅利用電泳力或採用易溶於 至表面粗糙度值為Ra 0.05 μm(Rmax 0.34 μm)的鏡面。 水之結合劑當作結合力，其結合強度相當微弱，導致