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电子行业水处理 我国电子工业部高纯水水质试行标准 说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器 件以及有相同要求到半导体器件产品。　　　②二级高纯水适用于一般电路，分立器件以及 有相同要求的半导体器件产品。　　　③本表按1980年电子工业部标准摘录。 水质项目 一级高纯水指标 二级高纯水指标 细菌总数，个/mL ＜3 ＜9 微粒（直径＞0.5μm，粒/mL） ＜150 ＜300 电阻率（25℃）MΩ·cm ≥15 ≥10 电导率，μs/cm 0.05 0.1 有机物（以COD计） ＜0.3 ＜0.5 高纯水设备 高纯水水处理技术的发展史： 第一阶段：预处理——阳床——阴床——混合床 第二阶段：预处理——反渗透——混合床 第三阶段：预处理——反渗透——EDI装置 反渗透（RO）技术是一种利用膜分离去除水中离子的方法，尽管反渗透系统将水中95%-98%的离子去除，但还不能满足工业生产的要求，其后续工艺必须使用离子交换设备。 近几十年以来，混合床离子交换技术一直作为纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品（酸碱）和纯水，因此已很难满足于无酸碱纯水系统。 正因为传统的离子交换已经越来越无法满足现代工业和环保的需要，于是将膜和树脂结合EDI技术成为水处理技术的一场革命