电子束与离子束加工.pptVIP

(3) 离子束加工是靠离子轰击材料表面的原子来实现的，是一种微观作用，所以加工应力和变形极小，适宜于对各种材料和低刚件零件进行加工。 在目前的工业生产中，离子束加工主要应用于刻蚀加工(如加工空气轴承的沟槽，加工极薄材料等)、镀膜加工(如在金属或非金属材料上镀制金属或非金属材料)、注入加工(如某些特殊的半导体器件)等。 　　离子束加工装置由离子源系统、真空系统、控制系统和电源组成， 如下页图所示。 离子源又称离子枪，其工作原理是将气态原子注入离子室，经高频放电、电弧放电、等离子体放电或电子轰击等方法被电离成等离子体，并在电场作用下使离子从离子源出口孔引出而成为离子束。 如图所示为双等离子体离子束加工的基本原理图， 首先利用阴极与阳极之间的低气压直流电弧放电， 将氩、氪、氖等惰性气体在阳极小孔以上的低真空（1.3 Pa）中离子化。 二、离子束加工装置 图 双等离子体离子束加工的基本原理图 　　中间电极的电位一般比阳极低些，两者都由软铁制成，和电磁线圈形成很强的轴向磁场，由于中间电极和这个强磁场的作用，使电弧放电局限在其中间，在阳极小孔附近产生高密度强聚焦的等离子体。 经过控制电极和引出电极，将正离子引出到阳极小孔以下的高真空区（1.3×10－5Pa），再通过静电透镜所构成的聚焦装置形成高密度离子束，轰击工件表面，工件装夹在工作台上，工作台可作双坐标移动及绕立轴转动。 利用氩（Ar）离子或其它带有 10keV 数量级动能的惰性气体离子，在电场中加速，以极高速度“轰击”工件表面，进行“溅射”加工。 图 离子碰撞过程模型 被排斥Ar离子 回弹溅射原子 位移原子 格点间停留离子 一次溅射原子 Ar离子 二次溅射原子 Ar离子 格点置换离子 位移原子 工件表面 工件 真空 离子束加工 ◎将被加速的离子聚焦成细束，射到被加工表面上。被加工表面受“轰击”后，打出原子或分子，实现分子级去除加工。 1. 离子束溅射去除加工 ◆ 四种工作方式 惰性气体入口 阴极 中间电极 电磁线圈 阳极 控制电极 绝缘子 引出电极 离子束 聚焦装置 摆动装置 工件 三坐标工作台 图 离子束去除加工装置 ◎加工装置见图.三坐标工作台可实现三坐标直线运动，摆动装置可实现绕水平轴的摆动和绕垂直轴的转动。 三、离子束加工的应用 ◎离子束溅射去除加工可用于非球面透镜成形（需要5坐标运动），金刚石刀具和冲头的刃磨，大规模集成电路芯片刻蚀等。 图 离子束加工金刚石制品 离子束 离子束 r = 0.01μm 预加工 终加工 a) 金刚石压头 r = 0.01μm 离子束 离子束 预加工 终加工 b) 金刚石刀具 ◎离子束溅射去除加工可加工金属和非金属材料。 2. 离子束溅射镀膜加工 ◎用加速的离子从靶材上打出原子或分子，并将这些原子或分子附着到工件上，形成“镀膜”。又被称为“干式镀”（图） 离子束源 靶 溅射材料 溅射粒子 工件 真空 图 离子束溅射镀膜加工 ◎离子镀氮化钛，即美观，又耐磨。应用在刀具上可提高寿命1-2倍。 ◎溅射镀膜可镀金属，也可镀非金属。 ◎由于溅射出来的原子和分子有相当大的动能，故镀膜附着力极强（与蒸镀、电镀相比）。 ◎用高能离子（数十万KeV）轰击工件表面，离子打入工件表层，其电荷被中和，并留在工件中（置换原子或填隙原子），从而改变工件材料和性质。 ◎可用于半导体掺杂（在单晶硅内注入磷或硼等杂质，用于晶体管、集成电路、太阳能电池制作），金属材料改性（提高刀具刃口硬度）等方面。 3. 离子束溅射注入加工 4. 离子束曝光 ◎用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。 在真空条件下，将氩（Ar）、氪（Kr）、氖（Xe）等惰性气体，通过离子源电离形成带有 10 keV数量级动能的惰性气体离子，并形成离子束，在电场中加速，经集束、 聚焦后，射到被加工表面上。对加工表面进行轰击，这种方法称之为“溅射”。 由于离子本身质量较大， 因此比电子束有更大的能量，当冲击工件材料时，如果能量大，会从被加工表面分离出原子和分子， 这就是离子束溅射去除加工； 离子束溅射 　　如果用被加速了的离子从靶材上打出原子或分子，并将它们附着到工件表面上形成镀膜，则为离子束溅射镀膜加工（如图所示）； 用数十万电子伏特的高能离子轰击工件表面，离子将打入工件表层内， 其电荷被中和，成为置换原子或晶格间原子， 留于工件表层中，从而改变了工件表层的材料成分和性能， 这就是离子束溅射注入加工。 图 离子束溅射镀膜加工原理 　　离子束加工与电子束加工不同，离子束加工时，离子质量比电子质量大千倍甚至万倍，但速度较低， 因此主要通过力效应进行加工。 而电子束加工时，由于电子质量小， 速度高，动能几乎全部转化为热能，使工件材