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- 2019-04-18 发布于浙江
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一次实际的光刻加工过程 解泽哲
光刻定义
光刻是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留的是特征图形部分。
所需制出的电极设计图
准备工作
利用cvd生长出石墨烯,并转移至氧化生成 的SiO2基底上
光刻机
中科院URE-2000S/A型紫外光刻机
掩膜板
第一次光刻加工工艺
实际光刻加工过程
第二次光刻加工工艺
最终实物图
总结
光刻胶
掩膜板（复杂图形）
显影液
曝光系统
电子刻
此类技术的发展
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