晶圆尺度纳米压印光刻机总体结构的设计.docVIP

PAGE 大学 毕 业 设 计（论 文） 题目 晶圆尺度纳米压印光刻机总体结构的设计 学生姓名： 学生学号： 指导教师： 机械工程 学院 机械设计制造及其自动化 专业 班 20 毕业设计（论文）任务书 专业 机械设计制造及其自动化 班级 姓名 下发日期 20 题目 晶圆尺度纳米压印光刻机总体结构的设计 专题 主 要 内 容 及 要 求 大面积纳米压印光刻机是一种高效、高精度、低成本制造微纳米结构精密装备，是生产高密度磁盘、高亮度LED、微流体器件、微光学器件的核心设备，基于一种新型大面积纳米压印工艺，开展大面积晶圆尺度纳米压印光刻机整机结构的分析、设计及数字化建模的研究。 课题的目的：了解纳米压印基本工艺，熟悉整片晶圆纳米压印的原理和工艺实现方法，完成大面积晶圆尺度纳米压印光刻机整机的分析、设计及数字化建模工作。 课题的内容和要求：整机动力学分析，整机机械结构总体布局和方案的设计，整机部件的总体设计和装配，整机三维数字化建模。 主要技术参数 进 度 及 完 成 日 期 3 月7日 ~ 3月20日 毕业实习 3 月21日 ~ 4月3日 查阅资料、熟悉课题 4 月4日 ~ 4月17日 确定整机总体设计方案 4 月18日 ~ 5月1日 整机动力学分析 5 月2日 ~ 5月22日 整机关键部件的设计 5 月23日 ~ 5月29日 整机构的数字化建模和主要零件图绘制 5 月30日 ~ 6月15日 撰写毕业论文、准备答辩 教学院长签字 日 期 教研室主任签字 日 期 指导教师签字 日 期 指 导 教 师 评 语 指导教师: 年 月 日 指 定 论 文 评 阅 人 评 语 评阅人: 年 月 日 答 辩 委 员 会 评 语 评 定 成 绩 指导教师给定 成绩(30%) 评阅人给定 成绩(30%) 答辩成绩 （40%） 总 评 答辩委员会主席 签字 本科毕业设计（论文）说明书 PAGE 45 摘要 本文介绍了晶圆尺度紫外纳米压印光刻技术原理、发展趋势和所设计的压印系统。所设计的压印光刻机采用一种均匀性微接触压印工艺，适用于6英寸的大面积压印，在小的压印力和脱模力下，大大扩展了压印面积，同时的保证压印复形的精度和质量，从而大大提高了生产效率延长了模具寿命。 本文根据实际工况，根据压印机的性能要求和所实现的运动要求，对纳米压印光刻机的主体结构进行了分析设计并且充分考虑了整机尺寸布局，并进行了反复改进。在以上基础上，建立了纳米压印光刻机的各关键零部件主体结构的实体模型，并完成了整机的装配建模。 另外，本文还设计分析了晶圆尺度紫外纳米压印光刻机的关键子系统，如机架、压印头、承片台、主动减振系统、气动系统、固化曝光系统。 关键词：压印光刻机；压印头；承片台；机架；气动系统  Abstract This paper introduces the technology and principle of the wafer scale nanoimprinting lithography, development and the design of nanoimprinting lithography system. The design of pressure seal scanner using a uniformity micro contact pressure seal process, applicable to six inches of large area in the small embossing, stamped force and stripping force, greatly expand the stamping area, at the same time guarantee the accuracy of stamped complex shape and quality, which greatly improve the production efficiency extended the die life. In