状犿高反膜抗激光损伤性能.pdf

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２６ ８ Ｖｏｌ．２６ Ｎｏ．８ 　 　 年 月 ， ２０１４ ８ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ａｕ． ２０１４ 　 ｇ 　 ２４８狀犿高反膜抗激光损伤性能 刘凤娟， 周 曙， 秦娟娟， 邵景珍， 方晓东 　 　 　 　 　 （中国科学院 安徽光学精密机械研究所，安徽省光子器件与材料重点实验室，合肥 ２３００３１） 摘 要： 用电子束蒸发法在熔融石英基底上沉积了适用于 的 ／ 高反膜，为提高其抗激 ２４８ｎｍ ＨｆＯ ＳｉＯ 　　 　 　 ２ ２ 光损伤能力，设计并制备了两种保护层，一种是在常规高反膜系的基础上镀制二分之一波长厚度的ＳｉＯ２ 保护 层，另一种是用 ／ 做保护层。测试了 种高反膜样品的激光损伤情况，通过损伤形貌的变化分析了 ＡｌＯ Ｍ Ｆ ３ ２ ３ ｇ２ 两种保护层使抗激光损伤能力提高的原因以及存在的问题。 关键词： ２４８ｎｍＫｒＦ准分子激光器； 高反膜； 激光损伤； 保护层 　　 　 　 　 　 中图分类号： 文献标志码： ： ／ Ｏ４８４．４ Ａ 犱狅犻１０．１１８８４ＨＰＬＰＢ２０１４２６．０８１０１５ 　　 　 　　　　 　 　　 准分子激光器长期以来在脉冲紫外激光器中占首要地位，因其脉冲能量高，被广泛应用于掩膜法光刻技术 　　 ［］ １ 和眼科临床手术 。在准分子紫外激光器及其应用系统中，能够满足各种要求的高性能紫外光学薄膜元件（如 ［］ ２ 高反膜）是必不可少的组成部分，决定着整个系统的效率 。 在紫外波段，光子的能量已经大于很多材料的禁带宽度，紫外激光辐照会导致材料中的电子从价带跃迁到 　　 导带，从而产生强烈的本征吸收。同时，由于光子能量很高，膜层缺陷（包括非化学计量比缺陷、结构缺陷以及 杂质缺陷等）所导致的吸收往往较其他波段高很多。为增强紫外光学薄膜的抗激光损伤能力，国内外很多研究 ［ ］ ［ ］ ［ ］ ［ ］ ３５ ６７ ８１０ ８１０ 者致力于损伤机理 、膜层设计、薄膜沉积方法 、缺陷控制与检测 、激光预处理 等方面的研究。 本文首先采用 ／ 镀