第八章 子光学基础.pptVIP

第二篇 电子显微分析技术 绪论 用电子光学仪器研究物质组织、结构、成份的技术称为电子显微术。 材料的性能往往取决于它的微观结构及成分分布。因此，为了研究新的材料或改善传统材料，必须以尽可能高的分辨能力观测和分析材料在制备、加工及使用条件下（包括相变过程中，外加应力及各种环境因素作用下等）微观结构和微区成分的变化，并进而揭示材料成分—工艺—微观结构—性能之间关系的规律，建立和发展材料科学的基本理论。改炒菜式为合金设计。 主要内容 扫描电子显微分析 透射电子显微分析 电子探针显微分析 扫描式电子显微镜 (scanning electron microscope， SEM) ：1964年，第一部商售SEM问世，目前已被广泛的使用。SEM以较高的分辨率（3.5nm）和很大的景深可以清晰地显示粗糙样品的表面形貌，并以多种方式给出微区成份等信息，可用来观察断口表面微观形态，分析研究断裂的原因和机理，以及其它方面的应用。 透射电子显微镜（TEM）具有原子尺度的分辨能力，同时提供物理分析和化学分析所需全部功能的仪器。特别是选区电子衍射技术的应用，使得微区形貌与微区晶体结构分析结合起来，再配以能谱或波谱进行微区成份分析，得到全面的信息。 电子探针（EPMA）是在扫描电镜的基础上配上波谱仪或能谱仪的显微分析仪器，它可以对微米数量级侧向和深度范围内的材料微区进行相当灵敏和精确的化学成份分析，基本上解决了鉴定元素分布不均匀的困难。 电子显微分析在材料学中的应用 ①晶相、玻璃相、气相的存在与分布； ②晶粒大小、形状、位置； ③气孔的尺寸、形式、位置； ④显微缺陷、微裂纹、晶体缺陷； ⑤晶界及其所在处的杂质； ⑥微区的成分分析。 第八章 电子光学基础 光学显微镜和电子显微镜的基本光学原理是相似的，它们之间的区别仅在于所使用的照明源和聚焦成像的方法不同，前者是可见光照明，用玻璃透镜聚焦成像，后者用电子束照明，用一定形状的静电场或磁场聚焦成像。 §8－1 光学显微镜的局限性 §8－2 电子的波性及波长 §8－3 电子在电磁场中的运动和电子透镜 §8－4 电子透镜缺陷和分辨率 §8－5 电磁透镜的景深和焦深 §8－1 光学显微镜的局限性  1、一个世纪以来人们一直用光学显微镜来揭示材料的微观结构，但光学显微镜的分辨能力有限的。 由于光的衍射，使得由物平面内的点O1 、 O2 在象平面形成一B1 、 B2圆斑（Airy斑）。若O1 、 O2靠得太近，过分重叠，图象就模糊不清。 1. 对于光学显微镜，N.A的值均小于1，油浸透镜也只有1.5—1.6，而可见光的波长有限，因此，光学显微镜的分辨本领不能再次提高。 2. 提高透镜的分辨本领：增大数值孔径是困难的和有限的，唯有寻找比可见光波长更短的光线才能解决这个问题。 电磁波谱：电磁辐射按波长顺序排列，称~。 γ射线→ X 射线→紫外光→可见光→红外光→微波→无线电波 利用紫外线　　　强烈地吸收 X射线　　　　　没有办法使其聚焦 §8－3电子在电磁场中的运动和电子透镜 一、电子在静电场中的运动和静电透镜 电子是带负电粒子，电子波在静电场或磁场中运动，与光波在不同折射率的介质中传播比较，具有相似的光学性质. 1．静电场与电子光学折射定律 静电场—相对于观察者为静止的，不随时间变化的电场。 均匀电场的三个特点：(P83) 电子光学折射定律： Sinθ/Sinγ=（V2/V1）1/2=λ1/λ2 二、电子在磁场中的运动 和磁透镜 1．电子在磁场中的运动 由于磁场力和运动速度的影响，使电子向轴偏转，绕轴旋转聚焦。 2．磁透镜 把能使电子波聚焦的具有旋转对称非均匀的磁极装置叫做磁透镜。 恒磁透镜：恒磁体提供磁场。 电磁透镜：电磁线圈激磁。 3．电磁透镜特点： ① 能使电子偏转会聚成像，不能加速电子； ② 总是会聚透镜； ③ 焦距、放大倍数连续可调。 在电磁透镜中，球差对分辨率的影响最为重要，因为没有一种简便的方法使其矫正过来。而其他像差在设计和制造时，采取适当的措施是可以消除的。 作业 1、多重性因数的物理意义是什么？ 2、叙述X射线粉末法分析试样过程，在衍射数据和卡片对比不完全符合时，X射线衍射图判读原则是什么？ 3、非晶态物质的X射线衍射与晶态物质的有何不同？ 4、说明影响电磁透镜分辨率的关键因素是什么？如何提高电磁透镜的分辨率？ §8－4 电子透镜的缺陷和分辨距离 电子透镜也存在缺陷，使得实际分辨距离远小于理论分辨 距离，对电镜分辨本领起作用的是球差、象散和色差。 1） 球 差