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2019-5-2
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2.1 BJT
2.3 放大电路的分析方法
2.4 放大电路静态工作点的稳定问题
2.2 基本共射极放大电路
2.5 多级放大电路
第二章 半导体三极管放大电路
2.6 其他放大电路
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2.1.1 BJT的结构简介
2.1.2 放大状态下BJT的工作原理
2.1.3 BJT的V-I 特性曲线
2.1.4 BJT的主要参数
2.1.5 三极管放大的三种组态
3.1 BJT
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2.1.1 BJT的结构简介
(a) 小功率管 (b) 小功率管 (c) 大功率管 (d) 中功率管
外形
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半导体三极管类型
半导体三极管是由两个背靠背的PN结构成的。在工作过程中,两种载流子(电子和空穴)都参与导电,故又称为双极型晶体管,简称晶体管或三极管。
两个PN结,把半导体分成三个区域。这三个区域的排列,可以是N-P-N,也可以是P-N-P。因此,三极管有两种类型:NPN型和PNP型。
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BJT和TTL概念
BJT:Bipolar Junction Transistor 即双极结型晶体管,简称晶体三极管。
TTL(逻辑门电路)全称Transistor-Transistor Logic,即BJT-BJT逻辑门电路,是数字电子技术中常用的一种逻辑门电路,应用较早,技术已比较成熟。TTL主要有BJT和电阻构成,具有速度快的特点。最早的TTL门电路是74系列,后来出现了74H系列,74L系列,74LS,74AS,74ALS等系列。但是由于TTL功耗大等缺点,正逐渐被CMOS电路取代。
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半导体三极管的结构示意图如图所示。它有两种类型:NPN型和PNP型。
(a) NPN型管结构示意图
(b) PNP型管结构示意图
(c) NPN管的电路符号
(d) PNP管的电路符号
BJT的结构简介
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集成电路中典型NPN型BJT的截面图
BJT的结构剖面
内部: (内构造)
发射区杂质浓度基区和集电区
基区很薄
发射区面积<<集电区面积
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NPN型
PNP型
箭头方向表示发射结加正向电压时的电流方向
三极管结构及符号
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(1)产生放大作用的条件
使内部载流子三个传输过程正常进行的条件:
内部: (内构造)
发射区杂质浓度基区和集电区
基区很薄
发射区面积<<集电区面积
外部:(外加电压)
发射结正偏
集电结反偏
2.1.2 放大状态下BJT的工作原理
--------电流分配和电流放大作用
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(2)三极管内部载流子的传输过程
发射结正偏(多子扩散):
发射区(N区电子浓度大)向基区发射多子电子的过程,电子在(薄的)基区扩散和复合过程(复合很少部分,大部分到集电区边缘)
集电结反偏(少子漂移):
电子被(大面积、掺杂少)集电区吸引和收集的过程(同时少子有漂移)
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三极管内部电流的流向
提问?为什么少子只考虑 I CBO,因为集电结反偏,少子不可忽视
发射区向基区注入电子,形成发射极电流 iE
电子在基区中的扩散与复合,形成基极电流 iB
(因为基区很薄,掺杂少, iB小)
集电区收集扩散过来的电子,形成集电极电流 iC
少子的漂移形成集电极饱和电流 ICBO
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iE = iC + iB
★★放大原理小结
实验表明iC比iB大数十至数百倍。iB虽然很小,但对iC有控制作用,iC随iB的改变而改变,即基极电流较小的变化可以引起集电极电流较大的变化,表明基极电流对集电极具有小量控制大量的作用,这就是三极管的电流放大作用
(本质是直流能转换成交流能)。
(3)电流分配关系(含大小):
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(1)输入特性曲线(UCE为常数时,从输入方向看的VAR)
与二极管类似
2.1.3 BJT的V-I 特性曲线1. 三极管的特性曲线 -----输入
iB=f(vBE) vCE=const.
(2) 当vCE≥1V时, vCB= vCE - vBE0,集电结已进入反偏状态,开始收集电子,基区复合减少,同样的vBE下 IB减小,特性曲线右移。
(1) 当vCE=0V时,相当于发射结的正向伏安特性曲线。
(以共射极放大电路为例)
输入特性曲线
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三极管的特性曲线 -----输出---特性曲线三个区
讲清左右两图区别,左边是电源电压和偏置电阻固定,IB一定时的图
讲清三个区的
条件和特性,
详细见下页。
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