透射电镜原理.pptxVIP

透射电子显微镜（TEM） ;透射电镜简介; 概念：透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，TEM）是以波长极短的电子束作为照明源，用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨本领、高放大倍数的电子光学仪器。 简史： 1933年，德国科学家卢斯卡（Ruska）和克诺尔（Knoll）研制出了世界上第一台透射电镜，到今天，透射电镜已经诞生了70多年，由电镜应用而形成的交叉性学科——电子显微学已经日趋完善，电镜的分辨能力也比最初时提高了超过100倍，达到了亚埃级，并且在自然科学研究中起到日益重要的作用。;;1.2.2显微镜的分辨率 通常人眼的分辨本领大概是0.2mm（即人眼可分辨的两点间最小距离 为0.2mm） 显微镜可分辨的两点间的最小距离，即为显微镜的分辨率 ;采用物镜的孔径角接近90度 考虑采用可见光波长极限390nm的光束照明显微镜系统，可得d 约为200nm 对于TEM在100kV??速电压下，波长0.0037nm，d约为0.002nm，目前电子显微镜达不到其理论极限分辨率，最小分辨率达到0.1nm;1.2.3有效放大倍数 光学显微镜必须提供足够的放大倍数，把它能分辨的最小距离放大到人眼能分辨的程度。相应的放大倍数叫做有效放大倍数，它可由下式来确定： ;光学显微镜的有效放大倍数; 透射电子显微镜（简称透射电镜，TEM）可以以几种不同的形式出现： 高分辨透镜（HRTEM）：JEM2100，点分辨率：0.23 nm，晶格分辨率：0.14 nm，最小束斑尺寸0.5nm 透射扫描电镜（STEM）: 利用磁透镜将电子束聚焦到样品表面并在样品表面快速扫描，通过电子穿透样品成像，既有透射电子显微镜功能，又有扫描电子显微镜功能的一种显微镜。 分析型电镜(AEM):JEM2010HF，点分辨率: 0.25 nm,晶格分辨率: 0.19 nm,最小束斑尺寸1.5nm ;按加速电压分类： 200KV为低压透射电镜 加速电压 200~400KV为高压透射电镜 400KV为超高压透射电镜 按照明系统分类： 普通透射电镜和场发射透射电镜 按成像系统分类： 低分辨率透镜和高分辨率透镜;JEM-2100透射电镜外观图;分析型透射电子显微镜;基本构造及各部分结构原理;基本构造;图1.透射电镜电子光学部分基本构造示意图; 照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。它的作用：为成像系统提供一束亮度高、相干性好的照明光源；选择照明方式（明场或暗场成像）。;电子枪; 聚光镜;样品室;成像系统;;透射电镜成像原理;透射电镜由于入射电子透射试样后，将与试样内部原子发生相互作用，从而改变其能量及运动方向。显然，不同结构有不同的相互作用。这样，就可以根据透射电子图象所获得的信息来了解试样内部的结构。 特点：在有形貌像的基础上，进行微区成分和结构分析;成像过程;成像分类;透射电子显微像的衬度来源及分类;相位衬度;①质厚衬度;②衍射衬度;明场像和暗场像成像机理; SrTiO3陶瓷 TEM明场像;33;透射电镜专用铜网;35;透射电镜样品制备方法; 分散：用超声波分散器将需要观察的粉末在溶液（不与粉末发生作用的）中分散成悬浮液。 镀膜：用滴管滴几滴在覆盖有碳加强火棉胶支持膜的电镜铜网上。待其干燥（或用滤纸吸干）后，再蒸上一层碳膜，即成为电镜观察用的粉末样品。;块状材料是通过减薄的方法（需要先进行机械或化学方法的预减薄）制备成对电子束透明的薄膜样品。减薄的方法有超薄切片、电解抛光、化学抛光和离子轰击等.; 复型制样方??是用对电子束透明的薄膜把材料表面或断口的形貌复制下来，常称为复型。 复型方法中用得较普遍的是碳一级复型、塑料—碳二级复型和萃取复型。 对已经充分暴露其组织结构和形貌的试块表面或断口，除在必要时进行清洁外，不需作任何处理即可进行复型，当需观察被基体包埋的第二相时，则需要选用适当侵蚀剂和侵蚀条件侵蚀试块表面，使第二相粒子凸出，形成浮雕，然后再进行复型。;40;41;42;43;高岭石;不锈钢中的网形位错