高产能和193nm技术有助于集成电路晶圆厂.PDFVIP

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  • 2019-05-30 发布于湖北
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高产能和193nm技术有助于集成电路晶圆厂.PDF

立即发布 投资者关系: 媒体关系: Ed Lockwood Meggan Powers 投资者关系高级总监 企业宣传高级总监 (408) 875-9529 (408) 875-8733 ed.lockwood@ meggan.powers@ KLA-Tencor 宣布推出新型Teron™ SL650 光罩检测系统 高产能和 193nm 技术有助于集成电路晶圆厂 更经济地监测20nm 以下设计节点光罩 【加州MILPITAS 2014 年 5 月 20 日讯】今天,KLA-Tencor 公司 (纳斯达克股票代码: KLAC)宣布推出 Teron™ SL650,该产品是专为集成电路晶圆厂提供的一种新型光罩质量控 制解决方案,支持 20nm 及更小设计节点。Teron SL650 采用 193nm 光源及多种 STARlight™ 光学技术,提供必要的灵敏度和灵活性,

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