(IGBT)第七章 逆变装置.pptVIP

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第七章 逆变装置 §7.1 牵引逆变器 IGBT的驱动电路(门极驱动) IGBT的保护 应用实例 2.过电流的识别: 采用漏极电压的识别方法,通过导通压降判断漏极电流大小。进而切断门极控制信号。 注意:识别时间和动作时间应小于IGBT允许的短路过电流时间(几个us),同时判断短路的真与假,常用方法是利用降低门极电压使IGBT承受短路能力增加,保护电路动作时间延长来处理。 3.保护时缓关断: 由于IGBT过电流时电流幅值很大,加之IGBT关断速度快。如果按正常时的关断速度,就会造成Ldi/dt过大形成很高的尖峰电压,造成IGBT的锁定或二次击穿,极易损坏IGBT和设备中的其他元器件,因此有必要让IGBT在允许的短路时间内采取措施使IGBT进行“慢速关断”。 * * 一、绝缘栅双极晶体管IGBT)原理与特性概述 IGBT—— Insulated Gate Bipolar Transistor 近年来出现了许多新型复合器件,它们将前述单极型和双极性器件的各自优点集于一身,扬长避短,使其特性更加优越,具有输入阻抗高、工作速度快、通态电压低、阻断电压高、承受电流大等优点,因而发展很快.应用很广,已成为当前电力半导体器件发展的重要方向。 其中尤以绝缘栅双极晶体管(1GBT)最为突出,在各个领域中有取代前述全控型器件的趋势。 IGBT(IGT),1982年研制,第一代于1985年生产,主要特点是低损耗,导通压降为3V,下降时间0.5us,耐压500—600V,电流25A。 第二代于1989年生产,有高速开关型和低通态压降型,容量为400A/500—1400V,工作频率达20KHZ。目前第三代正在发展,仍然分为两个方向,一是追求损耗更低和速度更高;另一方面是发展更大容量,采用平板压接工艺,容量达1000A,4500V;命名为IEGT(Injection Enhanced Gate Transistor) 二 、工作原理: IGBT是在功率MOSFET的基础上发展起来的,两者结构十分类似,不同之处是IGBT多一个P+层发射极,可形成PN结J1,并由此引出漏极;门极和源极与MOSFET相类似。 1.分类: 按缓冲区有无分为: ①非对称型IGBT:有缓冲区N+,穿通型IGBT; 由于N+区存在,反向阻断能力弱,但正向压降低,关断时间短,关断时尾部电流小。 ②对称型IGBT:无缓冲区N+,非穿通型IGBT; 具有正、反向阻断能力,其他特性较非对称型IGBT差。 按沟道类型: ①N沟道IGBT ②P沟道IGBT 2.开通和关断原理: IGBT的开通和关断是由门极电压来控制的。门极施以正电压时,MOSFET内形成沟道,并为PNP晶体管提供基极电流,从而使IGBT导通。在门极上施以负电压时,MOSFET内的沟道消失,PNP晶体管的基极电流被切断,IGBT即为关断。 ①VDS为负时:J3结处于反偏状态,器件呈反向阻断状态。 ②VDS为正时:VGVT,沟道不能形成,器件呈正向阻断状态。 VGVT,绝缘门极下形成N沟道,由于载流子的相互作用, 在N-区产生电导调制,使器件正向导通。 ③关断时拖尾时间: 在器件导通之后,若将门极电压突然减至零,则沟道消失,通过沟道的电子电流为零,使漏极电流有所突降,但由于N-区中注入了大量的电子、空穴对,因而漏极电流不会马上为零,而出现一个拖尾时间。 ④锁定现象:由于IGBT结构中寄生着PNPN四层结构,存在着由于再生作用而将导通状态锁定起来的可能性,从而导致漏极电流失控,进而引起器件产生破坏性失效。出现锁定现象的条件就是晶闸管的触发导通条件: α1 +α2 =1 a. 静态锁定: IGBT在稳态电流导通时出现的锁定,此时漏极电压低,锁定发生在稳态电流密度超过某一数值时。 b. 动态锁定:动态锁定发生在开关过程中,在大电流、高电压的情况下、主要是因为在电流较大时引起α1和α2的增加,以及由过大的dv/dt引起的位移电流造成的。 c. 栅分布锁定:是由于绝缘栅的电容效应,造成在开关过程中个别先开通或后关断的IGBT之中的电流密度过大而形成局部锁定。 ——采取各种工艺措施,可以提高锁定电流,克服由于锁定产生的失效。 三、基本特性: (一)静态特性 1.伏安特性: 几十伏,无反向阻断能力 饱和区 放大区 击穿区 2.饱和电压特性: IGBT的电流密度较大,通态电压的温度系数在小电流范围内为负。大电流范围为正,其值大约为1.4倍/100℃。 3.转移特性: 与功率MOSFET的转移特性相同。当门源电压VGS小于开启电压VT时,IGBT处于关断

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