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32nm工艺技术 32nm工艺有哪些引人关注的工艺？ 193nm 浸没式光刻 双重图形 高k电介质/金属栅极 超低k电介质——气隙技术 高k SOI 等技术。 1.193nm浸没式光刻 浸没式光刻技术需要在光刻机投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片上的光刻胶之间充满高折射率的液体，如图所示。 传统光刻和浸没式光刻的对比示意图 1.193nm浸没式光刻 1.1原理 1.193nm浸没式光刻 1.2浸没式光刻带来的主要问题及对策 浸没液体 液体浸没方式 大数值孔径投影物镜的设计 偏振光照明 液体温度变化带来的影响 气泡的消除 光刻胶与污染 2.1浸没液体（积淀、气泡、光吸收） 当今高精度的浸没式步进扫描投影光刻机对浸没液体的选择相当苛刻，高折射率和高透射系数是最基本的要求。 一般地，使用水作为193nm光刻的浸没液体。 在曝光过程中，由于水中溶解的物质有可能沉积到投影物镜最后一个透镜的下表面或者光刻胶上，引起成像缺陷，而水中溶解的气体也有可能形成气泡，使光线发生散射和折射。因此，目前业界普遍使用价格便宜、简单易得的去离子和去气体的纯水作为第一代浸没式光刻机的浸没液体。 在大多数波段水的折射率为1.33左右，而在193nm 附近，水的折射率高达1.437。水在193nm波段的吸收系数很低，仅为0.035/cm。光刻机的生产率与照明光的透射率成正比，因此为了减小水对光的吸收，水层的厚度不能太