12光电子技术课件十四:光电成像系统(1).pptxVIP

12光电子技术课件十四:光电成像系统(1).pptx

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
光电子技术学课件之十四: ——第五章光电成像系统 (1) §1 固体摄像器件 ;§0 光电成像概述;;噪声方面——决定接收到的信号不稳定的程度或可靠性;三、光电成像系统基本组成的框图;§1 固体摄像器件 ;固体摄像器件主要有三大类: 电荷耦合器件(Charge Coupled Device,即CCD) 互补金属氧化物半导体图像传感器(即CMOS) 电荷注入器件(Charge Injenction Device, 即CID) 目前,前两种用得较多,我们这里只分析CCD一种。;一、电荷耦合摄像器件 ;(1)、 CCD的基本结构包括:转移电极结构、转移沟道结构、信号输入结构、信号输出结构、信号检测结构。构成CCD的基本单元是MOS电容。; 一系列彼此非常接近的MOS电容用同一半导体衬底制成,衬底可以是P型或N型材料,上面生长均匀、连续的氧化层,在氧化层表面排列互相绝缘而且距离极小的金属化电极(栅极)。;(2)、电荷存储 ;(3)、电荷转移;表面沟道器件的特点: 工艺简单,动态范围大,但信号电荷的转移受表面态的影响,转移速度和转移效率底,工作频率一般在10MHz以下。; 体内沟道(或埋沟道CCD): BCCD(Bulk or Buried Channel CCD)——用离子注入方法改变转移沟道的结构,从而使势能极小值脱离界面而进入衬底内部,形成体内的转移沟道,避免了表面态的影响,使得该种器件的转移效率高达99.999%以上,工作频率可高达100MHz,且能做成大规模器件。 ;(4)、光信号的注入;(5)、电荷检测 (输出); OG:输出栅,FD:浮置扩散区,R:复位栅,RD:复位漏,T:输出场效应管。; 电荷包的输出过程:VOG为一定值的正电压,在OG电极下形成耗尽层,使Φ3与FD之间建立导电沟道。在Φ3高电位期间,电荷包存储在Φ3电极下面。随复位栅R加正复位脉冲ΦR ,使FD 区与RD区沟通。因V RD为正十几伏的直流偏置电压,则FD区的电荷被RD区抽走。复位正脉冲过去后, FD 区与RD区呈夹断状态, FD 区具有一定的浮置。之后Φ3转变为低电位, Φ3电极下面的电荷包通过OG下的沟道转移到FD 区。; 对CCD的输出信号进行处理时,较多地采用了取样技术,以去除浮置电平、复位高脉冲及抑制???声。 ;2、电荷耦合摄像器件的工作原理 ;(1)线阵CCD 线阵CCD可分为双沟道传输与单沟道传输两种结构。下图(a)为单沟道,(b)为双沟道。;;二、电荷耦合摄像器件的特性参数 ;;;;;

文档评论(0)

tianebandeyazi + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档