电场热处理条件下TiO薄膜的晶化行为研究-物理学报.pdfVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 5$ %5 ， ， ， EKL 45$ DK 4 M=0N %5 （ ） !’;%FB%5B5$ B%#;’5 ,9(, G@HIJ9, IJDJ9, !%5 9A)0 4 GAOC 4 IK 4 电场热处理条件下!#$ 薄膜的晶化行为研究 周 锋 梁开明 王国梁 （清华大学材料科学与工程系，北京 !#$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改