中华人民共和 国电子行业军用标准
FL5961 SJ50033/151-2002
半导体分立器件
2DW14^}18型低噪声硅电压基准二极管
详 细 规 范
Semiconductordiscretedevice
Detailspecificationforlow-noisesiliconvoltage-
regulatordiodesfortypes2DW14~18
2002-10-30发布 2003-03-01实施
中华人 民共和 国信息产业部 批准
中华人民共和国电子行业军用标准
半导体分立器件
2DW 1418型低噪声硅电压基准二极管
详 细 规 范 5J 50033/151--2002
Semiconductor discrete device
Detail specification for low-noise silicon
voltage-regulator diodes for type 2DW 14^-18
1 范围
1.1主题内容
本规范规定了2DW 1441. d-耀低二.. p声硅屯压基准二极管’一溉;躺称器子冲爷勺详细要求·
1.2适用范围
本规范适用于器件的研I 生产和采购。
1.3分类
本规范根据器件质髯保翔等级翅行分类畜
1.3.1器件的瞥级:
按GJB 33人 -为 .`《 r导休分立器件总规范》’‘’1.3.1的规定,提供的一a飞UE等级肠丫普车、特军和超
特军三级,分别用字母护、犷丫一承};jCt表示薄卜:
2引用文件
GBIT 6571斗19时、年享饭器计 分立器雌于续违部从、脑旦城旗辉狂关)弃口魂整写极管
GBIT 7581X901-多纂军权分:立舞作外形一尺}411_
GJB 33A-97:卒导弓体介立器件总一奴范之
GJB 128A--97一半导休分狱器件试验方法
3 要求
3.1详细要求
各项要求应按GJ13 33A和本规范的规定。
3.2设计、结构和外形尺寸
器件的设计和结构应按G.1B 33A和本规范的规定。
3.2.1引出端材料和涂层
引出端材料为可伐,引出端表面应为金层或镍层,对引出端涂层另有要求时,在合同或订货单中予
以规定。
中华人民共和国信息产业部2002-10-30发布 2033-03-01实施
SJ5003311512002
3.2.2 器件的结构
器件采用金属管壳全密封封装结构。
管芯采用平面工艺,管芯与管座之间采用高温冶金键合。
3.2.3 器件电原理图
3.2.4 外形尺寸
外形尺寸应符合GB/T7581中的A3-02B(B4)型及本规范的规定(见图1}a
m m
必D
A3-02B (B4)
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41J
A
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