半导体制造工艺 教学课件 ppt 作者 张渊 第4章　氧　　化.pptVIP

4.7　氧化工艺模拟 1.Synopsys公司的TCAD系统(1)Device模块组　此模块作为业界标准器件的仿真工具，可以用来预测半导体器件的电学、温度和光学特性，通过一、二、三维的方式对多种器件进行建模，包括MOSFET、Strain Silicon、SiGe、BiCMOS、HBT、IGBT等，从简单的二极管、晶体管到复杂的CMOS器件、光电器件、功率器件、射频器件、存储器件等都有准确的模型。(2)Process模块组　Process是业界标准的工艺仿真工具，可以对IC生产工艺进行优化以缩短产品开发周期和产品定型。(3)Device Editor模块组　此模块具有三个操作模式：二维器件编辑，三维器件编辑和三维工艺流程模拟。 4.7　氧化工艺模拟 (4)Workbench模块组　此模块集成了Synopsys的TCAD各模块工具的图形前端集成环境，用户可以通过图形界面来进行半导体研究及其制备工艺模拟和器件仿真的设计、组织和运行，使用户可以很容易建立IC工艺流程，以便TCAD进行模拟，还可以绘制器件的各端口电学性能等重要参数。2.Silvaco公司的TCAD系统4.7.4　Athena基础 Athena工艺模拟器是目前比较常用的工艺模拟器。1.语法基础1)每一个语法命令占用一行，如果一行放不下，结尾处用一个加号“+”表示继续下一行；每一行不超过80个字符。2