模具新技术新工艺概论 教学课件 ppt 作者 于丽君 第八章.pptVIP

8.1溅射涂层 溅射涂层(镀膜)是指在真空中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使其原子获得足够的能量而溅出表面，沉积在基片上的技术。由于各种物质(包括高熔点、低蒸气压的金属和化合物)都可发生溅射，且溅射涂层的性能好，与基材的结合力强，因此比真空蒸镀要优越得多，适于用作工模具的涂层。 8.1.1 溅射涂层的原理及分类 当荷能粒子轰击固体(靶材)表面时，将发生一系列物理和化学现象，如图8—1所示。这些现象包括：靶材表面的原子、离子或分子的发射(溅射)；二次电子发射；入射离子的反射；光子和X射线的发射；气体的解吸；气体分解；溅射粒子背反射；加热；化学分解或反应；体扩散；碰撞级联；晶格损伤和注入等。这些物理或化学过程对溅射成膜都将产生不同程度的影响。 这里需要指出，由于真空工作室壁、靶、基片、夹具等都带有一定的负电位，都有可能产生溅射现象，但只有以靶的溅射为主体，成为控制因素时，才能发生真正意义上的溅射成膜。基片上发生的溅射称为溅射清洗。在溅射沉积时，通过设置合理的电气参数，调整各部件相对于等离子体的电位，便可实现特定的某种工艺过程。 溅射涂层有两种。一种是在真空室中，利用离子束轰击靶材表面，使溅射出的粒子在基片上成膜，这称为离子束溅射。要实现离子束溅射要配置特制的离子源，这给溅射涂层的设备增加了造价，故一般只在制备特殊的膜层时才采用离子束溅射技