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- 2019-08-10 发布于湖北
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Fe3O4 目前主要常使用的磁性材料 1 CoFe2O4 2 SrFe12O19 3 γ- Fe2O3 4 Page ? * 直接包覆于磁性材料表面的二氧化钛光催化性能往往小于纯的二氧化钛。 而在Fe3O4与TiO2之间包裹SiO2,可有效提高复合催化剂的光催化活性,SiO2的介入,不仅可有效地降低TiO2与Fe3O4之间发生交互作用,避免Fe3O4与TiO2之间的电子干扰,还可以加强粘结作用,使TiO2外包覆层不容易在光催化降解过程中脱落。 观点一 Page ? * 适量无定形的SiO2加入,可使催化剂的比表面积增大,表面的不饱和悬键增多,相应的OH-、H2O分子和染料等反应物的吸附量也变大,因此提高了光催化活性 观点二 Page ? * SiO2隔离层可避免电子反应、光溶解反应以及磁核的吸光,可阻止热处理过程中磁核被氧化,还可增大TiO2与基体的附着力。 观点三 Page ? * SiO2是一种宽禁带的半导体,它的导带位置比TiO2的导带位置高,它的价带位置比TiO2的价带位置低。SiO2的这种能带结构能够有效地阻止光致电子和空穴转移到磁性核心纳米粒子中复合,从而提高了有隔离层的光催化剂的光催化性能。 制备方法 原理:3Fe2++2S2032+02+40H-+Fe304(s)+S4062-+2H20 优
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