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PVD镀金基础知识 2012.08.08 内容大纲 一、物体表面镀膜方法分类 二、同湿式镀膜相比，干式镀膜的特点 三、真空镀膜与PVD 四、PVD镀金工艺流程 五、PVD镀金产品外观检验标准 一、物体表面镀膜方法分类 1、电镀法 原理：通电，使电解液电解，被电解的离子膜镀到作为电解液另一个电极的基体表面上。 缺点：基体必须是电的良导体、膜层厚度难以控制，且生产过程会产生大量废液造成环境污染。 2、化学镀膜法 原理：采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液并能迅速的参加还原反应。 缺点：这种镀膜方法不但膜的牢固性差，而且膜厚既不均匀又不易控制，同时还产出大量化学废液造成了严重的环境污染。 3、真空镀膜方法 原理：在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发（或溅射），使其在被涂覆的物体（称为基板、基块或基体）上凝固、沉积的方法就叫真空镀膜。 缺点：同电镀法及化学镀膜法相比，真空镀膜暂无发现缺点。 因其镀膜原理的特性不一样，人们也会把电镀及化学镀膜法称为湿式镀膜技术；而真空镀膜被人们称为干式镀膜技术。那么相比湿式镀膜，干式镀膜有哪些特点呢？ 二、同湿式镀膜相比 干式镀膜的特点 1、基体和膜材选材广泛，膜厚可进行控制以制备有各种不同功能性的薄膜。 2、真空条件下制备的薄膜环境清洁，镀膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯