薄膜材料的表征与测量方法.ppt

透射电子显微像 用物镜光阑选取透射电子束或衍射电子束之中的一束就可以构成样品的形貌像。 明场像：只使用透射电子束，用光阑挡掉所有衍射束的成像方式。 暗场像：透射电子束被用光阑挡掉，用一束衍射束来作为成像光源。 明场像、暗场像和电子衍射技术相互配合使用，可得到有关材料结构的丰富信息。 按晶体对X射线衍射的几何原理设计制造的衍射实验仪器。 由X射线管发射出的X射线照射到试样上产生衍射现象，用辐射探测器接收衍射线的X射线光子，经测量电路放大处理后在显示或记录装置上给出精确的衍射线位置、强度和线形等衍射信息。 基本组成： X射线发生器、衍射测角仪、辐射探测器、测量电路以及控制操作和运行软件的电子计算机系统。 X射线衍射仪（XRD） 测角仪—核心组成部分 扫描范围：正向（逆时针零度以上）2?角可达1650；负向（顺时针零度以下） 2?角可达-1000。 2?测量的绝对精度为0.020，重复精度为0.0010。 布拉格公式 特定波长的X射线束与晶体学平面发生相互作用时会发生X射线衍射。衍射现象发生的条件必须满足布拉格公式： 2dSin?=n? 式中：?为入射的X射线的波长；d为相应晶体学面的面间距；?为入射X射线与相应晶面的夹角；n为任意自然数。 采取收集入射和衍射X射线的角度信息及强度分布的方法，可以获得晶体点阵类型、点阵常数、晶体取向、缺陷和应力等有关材料结构的信息。 1981年，美国IBM公司Prof. G. Binning和Dr. H. Rohrer发明了扫描隧道电子显微镜（Scanning Tunneling Microscope），简称STM。（1986年获诺贝尔物理奖） 原理：利用量子力学中的隧道效应对样品表面进行分析，可以直接观察到原子，是目前进行表面分析的最精密的仪器。 横向分辨率0.1nm，纵向分辨率0.01nm。 扫描隧道显微镜（STM） 隧道效应（Tunneling Effect） 是量子力学中的微观粒子所具有的特性，即在电子能量低于它要穿越的势垒高度时，由于电子具有波动性而具有穿越势垒的几率。 STM通过探针针尖与样品表面保持恒定距离而移动扫描时，通过测量隧道效应电流而对表面形貌进行观察。 隧道效应电流是电子 波函数重叠的量度， 它与两金属电极之间 的距离以及衰减常数 有关。 第六章 薄膜材料的表征方法 §6.1 薄膜厚度测量 §6.2 薄膜结构的表征方法 §6.3 薄膜成分的表征方法 §6.4 薄膜附着力的测量方法 光学薄膜材料：薄膜的厚度、均匀性、光学性能。 随着电子技术的发展，研究内容扩展到薄膜的各种结构特征、成分分布、界面性质、电学性质。 如果没有先进分析手段的建立和广泛使用，就没有现代意义上的薄膜材料制备技术。 §6.1 薄膜厚度的测量 在薄膜技术中，所希望的性质Ei通常与许多参量有关，特别是与厚度有较大关系，即： Ei=Ei（D，P，….，基片） 式中D代表薄膜厚度；P为残留气体气压。 在薄膜制备过程中和沉积以后需要测量薄膜的厚度。在薄膜沉积过程中的膜厚确定采用原位测量，可以通过许多技术手段和方法实现膜厚和相关物理量的测量。 §6.1.1 薄膜厚度的光学测量方法 特点：不仅被用于透明薄膜，还可被用于不透明薄膜；使用方便，测量精度较高。 原理：多利用光的干涉现象作为测量的物理基础。 从平行单色光源S射到薄膜表面一点A的光将有一部分被界面反射，另一部分在折射后进入薄膜中。 这一射入薄膜中的光束将在薄膜与衬底的界面上的B点再次发生反射和折射。 为简单起见，可先假设在第二个界面上，光全部被反射回来并到达薄膜表面的C点，在该点处，光束又会发生发射和折射。 要想在P点观察到光的干涉极大，其条件是直接反射回来的光束与折射后又反射回来的光束之间的光程差为波长的整数倍。 光的干涉条件 不透明薄膜厚度测量的等厚干涉（FET）和等色干涉（FECO）法 透明薄膜厚度测量的干涉法薄膜测量的椭偏仪方法 （一）表面粗糙度仪法 用直径很小的触针滑过被测薄膜的表面，同时记录下触针在垂直方向的移动情况并画出薄膜表面轮廓的方法。 不仅可以用来测量表面粗糙度，也可以用来测量特意制备的薄膜台阶高度，得到薄膜厚度的信息。 §6.1.2 薄膜厚度的机械测量方法 粗糙度仪触针的头部是用金刚石磨成约2?10?m半径的圆弧后做成的。 在触针上加有1?30mg的可以调节的压力。 垂直位移可以通过机械、电子和光学的方法被放大几千倍甚至一百万倍，因此垂直位移的分辨率最高可以达到1nm左右。 缺 点 容易划伤较软的薄膜并引起测量误差。尽管在触针上施加的力很小，但是由于触针头部直径也很小，因而触针对薄膜表面的压强很大，即使在薄膜较软时，薄膜的划伤和由此引起的误差是不