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物理气相沉积技术The Physical Vapor Deposition(PVD) ;;原理：物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。;PVD的物理原理示意图;“物理气相沉积” 通常有下面三个工艺步骤：;几种常见的薄膜结构;;PVD特点;PVD特点;;物理气相沉积（PVD）;电子束蒸发镀膜仪 PVD 75 美国 Kurt J Lesker Company 磁控溅射镀膜仪 PVD 75 美国 Kurt J Lesker Company ;电子束蒸发原理与特点;E-Gun Crucible;磁控溅射：使电子的路径不再是直线，而是螺旋线，增加了与气体原子发生碰撞的几率，在同样的电压和气压下可以提高气体电离的效率，提高了沉积速率。;;附加磁场的优点;;PVD 技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。近年来，由于PVD技术和工艺、设备水平的发展，加上使用靶材品种和质量的增加，有效提高了涂层和基体的结合强度，扩大了涂层材料的种类，是过去难于使用PVD技术沉积的碳化物、氮化物、氧化物等硬质涂层，现在变成了可能，极大地扩展了PVD技术的应用范围。 与化学气相沉积（CVD）工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代??色制造的发展方向。 ;;对高速钢刀具进行涂覆, 可得到致密等轴涂层, 具有优异的耐磨特性, 可显著提高刀具的使用寿命； 在飞机和宇宙飞船的各种形状复杂的零部件上, 可镀制各种薄膜； 为选择传播射线, 在建筑玻璃上镀制化合物镀层； 为减少摩擦, 在各种工程机械零件上镀制润滑的膜层； 太阳能和光电元件应用的各种薄膜…;ONLY ON THE FILM? ;其它生长模式;; Thanks