第5章薄膜应用-2.pptVIP

薄膜技术的应用一金刚石薄膜的应用及合成技术 目录 一、引言 二、金刚石薄膜的性能及其应用 三、金刚石薄膜的合成方法 四、金刚石薄膜的分析和表征 五、目前需要解决的问题 引言 金刚石是C的三种同素异形体之一，它有许多优良的特性，其中高硬度就是它的特性之一。天然金刚石是在地下深处的超高压、超高温条件下形成的, 储量极少, 价格极其昂贵。　 金刚石的人工合成始于1954年, 美国通用电气公司首次以镍为催化剂, 用高压发生装置在6×１０9atm 和2700℃ 的条件下以石墨为原料静压合成出人造金刚石。 高温高压法投资大, 生产费用高, 技术难度大, 合成的金刚石粒度大都在1mm以下。由于人造金刚石颗粒的形态所限, 多年来只能应用其硬度高的特性, 而金刚石的其它优异特性均因形态所限而不能充分利用。 为了更有效地利用这一功能材料, 必须开发能自由控制其形态和集合状的合成技术。由于低压法合成金刚石可以在大面积的各种衬底上沉积出粒状或膜状金刚石, 因此它将为金刚石在电子工业, 光学工业和空间技术等重要领域的广泛应用开拓了崭新的局面。 目录 一、引言 二、金刚石薄膜的性能及其应用 三、金刚石薄膜的合成方法 四、金刚石薄膜的分析和表征 五、目前需要解决的问题 二、金刚石薄膜的特性及应用 1、 在已知的物质中, 硬度最高（维氏硬度约为98070MPa; 显微硬度一般大