第二篇-第五章 增透膜.pptVIP

对应于 单层增透膜零反射率条件，见式（3-51）。而直线 对应于 双层增透膜零反射率条件，见式（3-79）。 图中虚线 （5-39） （5-40） 是两层增透膜存在两个反射率零点的条件，见式（4-16）。 由图5-7可以看出，实现两层增透膜零反射存在大量的折射率组合，选择不同组合，可解决单层膜带宽窄和均匀性差的问题，同时也可以满足机械强度和温度方面的要求。 在玻璃基底（ ）上镀氧化铋（ : ）和氟化镁（ : ），入射介质假定为空气 。依据方程（5-33）和（5-34）计算 和 ，给定 ，确定光学厚 度 和 。对于任意入射波长 ，根据式（5-20）计算 和 ，代入式（5-26）计算膜系等效导纳Y，并由式（3-66）计算反射率，由此可得到不同入射角的反射率曲线，如图5-8所示。 膜系 由式（5-26）知，在垂直入射情况下, 两层膜系的等效导纳为 式中 (5-41) (5-42) 根据式（3-66）可写出膜系反射率为 式（5-41）～式（5-43）就是计算 两层膜系反射率的公式。当给定入射光波长 ，由式（5-42）计算得到两膜层相位厚度 ，再由式（5-41）和式（5-43）计算反射率。 图5-9（b）是三种不同基底介质镀两层 膜的反射率理论计算曲线，其对应的膜系参数列表5-2。图5-9（a）为玻璃基底 两层膜 (5-43) 系所对应的导纳图。与图5-6相比较，玻璃基底和锗基底是单一零点设计，反射率极小点明显降低，增透效果得到改善，但带宽仍然很窄。而硅基底是基于双零点设计，反射率出现两个极小点，带宽展宽，均匀性也得到改善，但透射率减小。 5.4.2.2 多层均匀介质增透膜 虽然两层膜系可以满足大多数应用要求， 但要获得更宽的低反射区，并且在低反射区具有良好的均匀性，就必须采用三层以上的膜系。 在红外波段玻璃基底不再透明，必须用其他材料作为基底，典型的材料是锗和硅，硅的折射率为3.5，锗的折射率为4.0。在红外区域，这些材料不镀增透膜将产生大约30%的反射损耗，因而需要镀增透膜。 第四章例三用矢量法讨论了三层增透膜，用同样的方法可以得到四层增透膜在 处出现零反射，因而比三层膜具有更宽的低反射区。用矩阵方法计算得到锗基底上镀四层膜反射率曲线如图5-10（b）所示。图5-10（a）对应于四层增透膜导纳图，表5-3为两种类型增透膜参数。图5-10（b）还给出了在锗基底上镀十层膜的反射率计算实例，其中折射率选择近似为线性变化，即用均匀膜近似线性非均匀膜。由图可见，十层镀膜效果非常明显，均匀性也很好。 图5-11是上海新产业技术有限公司宽带增透膜产品之一的反射率实测曲线，在 ～2100nm的波段内，反射率小于1%。采用等离子体助镀和离子溅镀，基底材料可选择各种光学玻璃、石英玻璃、CaF2、锗、硅、KTP等，膜层牢固，致密，吸收极小，温、湿度稳定性能好，可应用于许多光学系统中。 5.5 非均匀介质増透膜*(研究生内容) 如图5-3（d）、（e）、（f）所示，非均匀介质镀膜是在折射率为n1和n2的两介质界面之间镀一折射率从n1到n2连续变化的过渡层，这种镀膜可在非常宽的波段内实现增透。另外，在入射角变化的情况下，非均匀介质膜层反射率特性曲线变化比较小，这是一大优点。 实际镀膜过程中，得到非均匀膜层可采用两个独立的蒸发源，通过蒸发把两种镀膜材料适当混合，可以得到折射率渐减的非均 匀层。或者一个更实际的解决办法是仅用两种材料的一系列均匀非 整数倍的薄层就可替代非均匀层，如图5-12所示。图5-12（a）是两种介质等效非均匀层的折射率剖面，均匀薄层光学厚度变化纵向对称；图5-12（b）是理论计算和实测结果曲线。 图5-13是采用镀膜材料SixOyNz实现非均匀増透膜的一个实例，非均匀层的折射率从基底的折射率单调减小到Si3N4的折射率。计算模型为 ，非均匀膜层的折射率计算公式采用 式中d是非均匀层的厚度，nL和nH分别表示低折射率层和高折射率层，z是厚度变量。显而易见，计算和实测结果非常一致。 (5-44) 5.6 入射角变化对透射率的影响