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- 2019-08-31 发布于上海
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微电子器件课程设计报告
题 目: NPN型双极晶体管
班 级: 微电0802班
学 号: 080803206
姓 名: 李子忠
指导老师: 刘剑霜
2011 年6月6日
目标结构
NPN 型双极晶体管
目标参数
最终从IV曲线中提取出包括fT和 Gain在内的设计参数.
三、在该例中将使用:
(1)多晶硅发射双极器件的工艺模拟;
(2)在DEVEDIT中对结构网格重新划分;
(3)提取fT和peak gain.
ATLAS中的解过程:
1. 设置集电极偏压为2V.
2. 用 log语句用来定义Gummel plot数据集文件.
3.用 extract语句提取BJT的最大增益maxgain以及最大 ft,maxft. Gummel plot:晶体管的集电极电流Ic、基极电流 Ib与基极-发射极电压 Vbe关系图(以半对数坐标的形式).
四、制造工艺设计
4.1.首先在ATHENA中定义0.8um*1.0um的硅区域作为基底,掺杂为均匀的砷杂质,浓度为2.0e16/cm3,然后在基底上注入能量为18ev,浓度为4.5e15/cm3的掺杂杂质硼,退火,淀积一层
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