国家标准《贵金属复合材料覆层厚度的扫描电镜测定方法》编制说明（送审稿）.docxVIP

PAGE 2 贵金属复合材料覆层厚度的扫描电镜测定方法 （GB/T XXXXX-XXXX） 编制说明 贵金属复合材料覆层厚度的扫描电镜测定方法 （GB/T XXXXX-XXXX） 编制说明 一、工作简况 项目概述： 通过各种复合技术（电镀，固相复合，化学气相沉积等）制备出的贵金属复合材料不仅性能优良，而且大量的减少了贵金属用量，有效的降低了材料的成本，是未来贵金属材料发展的重要趋势。近年来贵金属复合材料呈现出器件小型化覆层超薄化的趋势，尤其许多用于军工的高性能产品其覆层厚度不足1μm，在民用方面纳米级覆层、多层覆层的复合材料产品也大量出现。目前国内有相关标准： GB/T17722-1999《金覆盖层厚度的扫描电镜测定方法》[1]该标准的覆层厚度测定范围为（0.2~10）μm无法测定厚度低于200nm的覆层厚度，且该标准的截面制备方法无法获得超薄覆层的良好截面导致覆层的测量难以进行，贵金属复合材料行业急需一种新的标准方法来对目前的产品进行有效检验。 近年来随着新技术的出现给以上问题带来了解决方法，现在扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope, SEM）上可集成聚焦离子束（Focused Ion Beam，FIB）[2]，结合气体注入系统（Gas Injection System，GIS）[2]能够对贵金属复合材料的超薄覆层进行原位制备与测量，这种设