镀膜技术PVD幻灯片课件.pptVIP

镀膜技术 分为气相 、液相 、固相三种，以气相沉积为主。;PVD的概念：在真空度较高的环境下，通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料逸出沉积物质粒子（可以是原子、分子或离子），这些粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。其技术关键在于：如何将源材料转变为气相粒子（而非CVD的化学反应）！;蒸发形式. 蒸发温度?melting point, 熔化; 否则, 升华;;钨W(Tm=3380℃) 钽Ta(Tm=2980℃) 钼Mo(Tm=2630℃)? ;蒸发温度1000-2000 ° C的材料可用电阻加热作蒸发源. 加热器 ? 电阻? 通电后产生热量 ?产生热量使蒸发材料的分子或原子获得足够大的动能而蒸发.;加热装置的分类和特点： （1）丝状（0.05-0.13cm)，蒸发物润湿电阻丝，通过表面 张力得到支撑。只能蒸发金属或合金；有限的蒸发材料被蒸发；蒸发材料必须润湿加热丝；加热丝容易变脆。 （2）凹箔：蒸发源为粉末。 （3）锥形丝筐蒸发小块电介质或金属。;主要问题： ? 支撑材料与蒸发物之间可能会发生反应；? 一般工作温度在1500~1900 ℃，难以实现更高蒸发温度， 所以可蒸发材料受到限制；? 蒸发率低； ? 加热速度不高，蒸发时待蒸发材料如为合金或化合物， 则有可能分解或蒸发速率不同，造